[发明专利]一种去除工业硅中硼的方法无效
| 申请号： | 201010242101.1 | 申请日： | 2010-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN101913608A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | 谭毅;姜大川;董伟;顾正;彭旭 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 关慧贞 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去除 工业 硅中硼 方法 | ||
1.一种工业硅除硼的方法，其特征在于，用将工业硅料(4)放入纯度为99.9％以上的石英环(5)中，在电子束(1)作用下熔炼，利用高真空度将氧化硼去除，具体步骤如下：
先将工业硅料(4)放入石英环(5)中；再将石英环(5)放入水冷铜坩埚(7)中，关闭真空装置盖(2)；用机械泵(6)、罗兹泵(8)将真空室(3)抽真空，抽到低真空1pa，再用扩散泵(9)将真空抽到高真空10-3pa以下；
然后给电子枪(1)预热，设置高压为25-35kW，高压预热5-10分钟，关闭高压，设置电子枪(1)束流为70-200mA，束流预热5-10分钟，关闭电子枪(1)束流；同时打开电子枪(1)的高压和束流，稳定后用电子枪(1)轰击工业硅料(4)，增大电子枪(1)束流到500-800mA，持续轰击30-50分钟；以每分钟50-200mA的速度调低电子枪(1)的束流直到关闭；
最后依次关闭扩散泵(9)、罗兹泵(8)、机械泵(6)待温度降到200℃左右时，打开放气阀(11)，打开真空装置盖(2)取出硅材料。
2.如权利要求1所述的一种工业硅除硼的方法，其所采用装置的特征在于，装置由真空装置盖(2)、真空圆桶(12)构成装置的外壳，真空圆桶(12)内腔即为真空室(3)，真空室(3)内装有熔炼系统，熔炼系统由电子枪(1)、石英环(5)、水冷铜坩埚(7)构成，石英环(5)放入水冷铜坩埚(7)上，对中，在水冷铜坩埚(7)的上方安置电子枪(1)，将支撑杆(10)与水冷铜坩埚(7)链接，焊牢；机械泵(6)、罗兹泵(8)、扩散泵(9)分别在真空圆桶(12)右侧相连，放气阀(11)与真空圆桶(12)的左侧中部相连。
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