[发明专利]从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及废水中除去特定溶解物的多级处理，特别涉及从印制电路板蚀刻废液中除去砷的方法，尤其涉及从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法。

【背景技术】

印制电路板蚀刻废液(也称PCB蚀刻废液)包括碱性蚀刻废液和酸性蚀刻废液，其中印制电路板酸性蚀刻废液中铜及氯离子含量高，属酸性，内含有砷等杂质；由印制电路板酸性蚀刻废液生产出来的碱式氯化铜对砷的含量有严格要求，砷含量越低越好，一般在用印制电路板酸性蚀刻废液生产碱式氯化铜前，需要对印制电路板酸性蚀刻废液进行除砷的前期处理。

现有技术从印制电路板酸性蚀刻废液中除砷的方法包括中和沉淀法、硫化物沉淀法、铁氧体沉淀法和絮凝沉淀法，这些方法有的除砷效果不好，有的会造成二次污染，有的成本较高；如现有技术印制电路板酸性蚀刻液除砷的方法有一种是加入二氧化钛后，通过沉淀法把砷含量降低，该方法除砷效果好，但是使用二氧化钛的处理成本高；因此，本领域的技术人员在控制成本的前提下，找到一套从印制电路板酸性蚀刻废液中除砷效果好的方法是较为迫切的难题。

【发明内容】

本发明要解决的技术问题在于避免上述现有技术的不足之处而提出一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，用于从印制电路板酸性蚀刻废液生产出碱式氯化铜的前期处理，该除砷的pH值方法采用pH值调节法和絮凝沉淀法共同使用，在成本低廉的情况下实现对印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理，具有处理成本低、操作简单和设备投资小等优点，适合对大批量印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理。

本发明解决所述技术问题采用的技术方案是：

一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，用于从印制电路板酸性蚀刻废液生产出碱式氯化铜的前期处理，包括如下步骤：

A、pH值调节：调节待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.0～3.0之间；

B、絮凝沉淀：

①称量，按每立方米待处理印制电路板酸性蚀刻废液称取0.8～1.5千克的絮凝剂；

②配置絮凝剂溶液，用水稀释称量好的絮凝剂，搅拌配置成粘稠溶液；

③将配置好的絮凝剂溶液加入经所述pH值调节后的酸性蚀刻废液中，搅拌3～20分钟，然后静置3～6小时；

C、过滤：将沉淀物过滤掉，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液。

所述步骤A中，采用铜氨液来调节所述待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.2～2.8范围内，如pH值为2.5。所述铜氨液的重量不少于所述待处理印制电路板酸性蚀刻废液重量的20％。

或者是，所述步骤A中，采用氨水来调节所述待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.2～2.8范围内，如pH值为2.5。所述氨水的重量不少于所述待处理印制电路板酸性蚀刻废液重量的20％。

在配置所述絮凝剂溶液时，搅拌时间为20～35分钟。

所述絮凝剂包括聚丙烯酰胺(Polyacrylamide，简称PAM)。

在配置所述絮凝剂溶液时，所述水的重量至少是所述絮凝剂重量的六倍。

同现有技术相比较，本发明从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法之有益效果在于：

1、除砷所需物料：调节待处理印制电路板酸性蚀刻废液之pH值的铜氨液或氨水成本较低，并且絮凝沉淀所用聚丙烯酰胺絮凝剂的成本也较低，这样使得整个除砷过程中所需物料的成本低廉；

2、聚丙烯酰胺溶液、铜氨液或氨水的配置操作简单；

3、整个除砷操作过程简单，易控制，沉淀易过滤，设备投资小；

4、除砷率高；

5、适合对大批量印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理。

【具体实施方式】

下面结合各附图对本发明作进一步详细说明。

一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，用于从印制电路板酸性蚀刻废液生产出碱式氯化铜的前期处理，包括如下步骤：

A0、取样分析和检测：对待处理的印制电路板酸性蚀刻废液，取样进行分析和检测该酸性蚀刻废液中的砷含量，同时需要检测该酸性蚀刻废液之pH值；