[发明专利]一种防止边缘漏电的聚光太阳电池芯片制作方法有效
申请号: | 201010244598.0 | 申请日: | 2010-07-29 |
公开(公告)号: | CN101969086A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 吴志敏;梁兆煊;林桂江;熊伟平;许文翠 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 厦门原创专利事务所 35101 | 代理人: | 徐东峰 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防止 边缘 漏电 聚光 太阳电池 芯片 制作方法 | ||
1.一种防止边缘漏电的聚光太阳电池芯片制作方法,其工艺步骤为:
采用精确半刀切割方法,采用刀口具有倾斜侧面的半刀切割刀片沿电池芯片的切割道开槽,所开槽侧壁同样具有一定倾斜角度;
对开槽侧壁进行化学抛光;
在电池芯片表面覆盖充当减反射膜的透明绝缘材料,将电池芯片表面钝化防止漏电;
用刀口宽度小于半刀切割刀片宽度的常规刀片将芯片划裂,形成单个太阳电池芯片。
2.如权利要求1所述的一种防止边缘漏电的聚光太阳电池芯片制作方法,其特征在于:半刀切割方法采用刀口具有一定倾斜侧面的切割刀片,其倾斜角度为10°~80°。
3.如权利要求1所述的一种防止边缘漏电的聚光太阳电池芯片制作方法,其特征在于:开槽侧壁化学抛光方式可采用湿法腐蚀或干法腐蚀。
4.如权利要求1所述的一种防止边缘漏电的聚光太阳电池芯片制作方法,其特征在于:透明绝缘材料选自氮化硅、二氧化硅、二氧化钛,氧化铝、氮化铝,氟化镁或前述的任意组合之一。
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