[发明专利]形成单层纳米结构的方法和器件以及包含这种单层的器件

权利要求书

1.一种形成纳米结构阵列的方法，该方法包括：

提供固体载体，所述载体在其表面包含至少一个垂直的不连续部分，所述不连续部分包含表面上的突起或凹陷，突起或凹陷处在于固体载体的预定位置；

在固体载体上沉积溶液，所述溶液包含分散在至少一种溶剂中的纳米结构；

蒸发至少部分溶剂，使纳米结构聚集在突起上或凹陷中成阵列。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述固体载体包含第一层。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，第一层包含选自以下的材料：介电材料、氧化物、氮化物、氧化硅、氧化铪和氧化铝。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，固体载体包含其上设置第一层的基材。

5.如权利要求2所述的方法，所述方法包括用含纳米结构缔合基团的组合物涂覆第一层，然后在第一层上沉积溶液。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在固体载体上沉积溶液的步骤包括将溶液旋涂在固体载体上，将溶液浸涂在固体载体上，或者将固体载体浸在过量的溶液中。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，纳米结构包含基本呈球形的纳米结构或量子点。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，蒸发至少部分溶剂的步骤包括蒸发基本上所有溶剂。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述阵列包括有序阵列。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述阵列包含单层。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述阵列包含六方密堆积单层。

12.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述阵列包括无序阵列。

13.一种器件，包括：

在其表面包含至少一个垂直的不连续部分的固体载体，所述不连续部分包含表面上的突起或凹陷，突起或凹陷处于固体载体的预定位置；

位于突起上或凹陷中的许多纳米结构。

14.如权利要求13所述的器件，其特征在于，纳米结构分散在至少一种溶剂中。

15.如权利要求13所述的器件，其特征在于，纳米结构基本上没有溶剂。

16.如权利要求13所述的器件，其特征在于，纳米结构构成位于突起或凹陷中的阵列。

17.如权利要求16所述的器件，其特征在于，所述阵列包括有序阵列。

18.如权利要求16所述的器件，其特征在于，所述阵列包含单层。

19.如权利要求18所述的器件，其特征在于，所述阵列包含六方密堆积单层。

20.如权利要求16所述的器件，其特征在于，所述阵列包括无序阵列。

21.如权利要求13所述的器件，其特征在于，所述固体载体包含第一层。

22.如权利要求21所述的器件，其特征在于，第一层包含选自以下的材料：介电材料、氧化物、氮化物、氧化硅、氧化铪和氧化铝。

23.如权利要求21所述的器件，其特征在于，固体载体包含其上设置了第一层的基材。

24.如权利要求21所述的器件，其特征在于，第一层包含涂层，该涂层包含带纳米结构缔合基团的组合物。

25.如权利要求13所述的器件，其特征在于，纳米结构包含基本呈球形的纳米结构或量子点。