[发明专利]枢转装置无效
申请号: | 201010245416.1 | 申请日: | 2010-07-30 |
公开(公告)号: | CN102345835A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 许丰庭;裴建昌;梁家豪;蒋人达 | 申请(专利权)人: | 亿广科技(上海)有限公司;亿光电子工业股份有限公司 |
主分类号: | F21V21/00 | 分类号: | F21V21/00;F21W131/103 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 任永武 |
地址: | 201203 上海市张江*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种枢转装置,包括:
一第一枢接部,具有一第一定位槽,该第一定位槽具有一第一干涉面;
一第二枢接部,具有相互连通的一容纳空间及一第一开口,该容纳空间用以供该第一枢轴部通过一转轴与该第二枢轴部枢接,使该第一枢轴部及该第二枢轴部相对枢转,该第一干涉面相对于该转轴倾斜该第一开口用以于该第一枢轴部及该第二枢轴部相对枢转时对应于该第一定位槽;
一第一定位块,滑设于该第一开口及该第一定位槽,用以于该第一枢轴部及该第二枢轴部相对枢转时滑动于该第一定位槽,该第一定位块具有一相对于该第一干涉面的第二干涉面;以及
一锁固元件,以贯穿该第一开口及该第一定位槽的方式与该第一定位块锁固或分离;
当该锁固元件与该第一定位块锁固时,该第一干涉面与该第二干涉面产生干涉,使该第一枢轴部与该第二枢轴部定位;
当该锁固元件与该第一定位块分离时,该第一干涉面与该第二干涉面解除干涉,使该第一枢轴部与该第二枢轴部相对枢转。
2.根据权利要求1所述的枢转装置,其特征在于,该第一枢轴部还具有一连通于该第一定位槽的第二定位槽,该第二定位槽具有一第三干涉面,该第二枢轴部还具有一连通于该第一开口的第二开口,该第二开口用以于该第一枢轴部及该第二枢轴部相对枢转时对应于该第二定位槽,其中该枢轴装置还包括:
一第二定位块,滑设于该第二开口及该第二定位槽,用以于该第一枢轴部及该第二枢轴部相对枢转时滑动于该第二定位槽,该第二定位块具有一相对于该第三干涉面的第四干涉面;
其中,该锁固元件以贯穿该第一开口、该第一定位槽、该第二定位槽及该第二开口的方式与该第一定位块及该第二定位块锁固或分离;
当该锁固元件与该第一定位块及该第二定位块锁固时,该第一干涉面及该第三干涉面分别与该第二干涉面及该第四干涉面产生干涉,使该第一枢轴部与该第二枢轴部定位;
当该锁固元件与该第一定位块及该第二定位块分离时,该第一干涉面及该第三干涉面分别与该第二干涉面及该第四干涉面解除干涉,使该第一枢轴部与该第二枢轴部相对枢转。
3.根据权利要求2所述的枢转装置,其特征在于,该第三干涉面相对于该转轴倾斜。
4.根据权利要求3所述的枢转装置,其特征在于,该第三干涉面相对于该第一干涉面平行。
5.根据权利要求3所述的枢转装置,其特征在于,该第三干涉面相对于该第一干涉面倾斜。
6.根据权利要求2所述的枢转装置,其特征在于,该第三干涉面相对于该转轴垂直。
7.根据权利要求2所述的枢转装置,其特征在于,该第一定位槽环绕该转轴且具有一第一槽端及一第二槽端,该第一定位槽的深度由该第一槽端往该第二槽端的方向逐渐变大或变小;
其中,该第二定位槽环绕该转轴且具有一第三槽端及一第四槽端,该第二定位槽的深度由该第三槽端往该第四槽端的方向逐渐变大或变小。
8.根据权利要求2所述的枢转装置,其特征在于,该第一干涉面为该第一定位槽的槽底,该第三干涉面为该第三定位槽的槽底。
9.根据权利要求1所述的枢转装置,其特征在于,该第一定位槽环绕该转轴且具有一第一槽端及一第二槽端,该第一定位槽的深度由该第一槽端往该第二槽端的方向逐渐变大或变小。
10.根据权利要求1所述的枢转装置,其特征在于,该第一干涉面为该第一定位槽的槽底。
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