[发明专利]避免设备内共存干扰的测量上报方法及设备有效
申请号: | 201010249725.6 | 申请日: | 2010-08-10 |
公开(公告)号: | CN102378299A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 李海涛;谌丽 | 申请(专利权)人: | 电信科学技术研究院 |
主分类号: | H04W36/30 | 分类号: | H04W36/30;H04W88/06 |
代理公司: | 北京鑫媛睿博知识产权代理有限公司 11297 | 代理人: | 龚家骅 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 避免 设备 共存 干扰 测量 上报 方法 | ||
1.一种避免设备内共存干扰的测量上报方法,其特征在于,包括:
终端获取当前工作系统的预干扰频段;
所述终端根据配置的策略对所述预干扰频段对应的小区的测量进行处理,根据处理后的测量结果发送测量上报消息。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述终端根据配置的策略对所述预干扰频段对应的小区的测量进行处理,根据处理后的测量结果发送测量上报消息包括:
当所述终端工作在所述预干扰频段时,将服务小区的测量结果设置为最低,或者将测量结果减去预设值;
根据测量结果和配置的测量事件判断是否发送测量上报消息,当判断结果为是时发送测量上报消息。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,当所述终端工作在所述预干扰频段时,还包括:
对所有处于预干扰频段内的邻小区,所述终端不进行测量。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述终端根据配置的策略对所述预干扰频段对应的小区的测量进行处理,根据处理后的测量结果发送测量上报消息包括:
当所述终端工作在所述预干扰频段之外时,将所述预干扰频段对应的小区的测量结果设置为最低,或者将测量结果减去预设值,或者不对预干扰频段对应的小区进行测量;
所述终端发送测量上报消息,其中携带处理后的测量结果。
5.如权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述当前工作系统具体为长期演进LTE系统。
6.如权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述测量结果具体为参考信号接收功率RSPP和/或参考信号接收质量RSRQ。
7.一种终端设备,其特征在于,包括:
获取单元,用于获取当前工作系统的预干扰频段;
处理单元,用于根据配置的策略对所述预干扰频段对应的小区的测量进行处理,根据处理后的测量结果发送测量上报消息。
8.如权利要求7所述的终端设备,其特征在于,所述处理单元包括:
测量处理子单元,用于当所述终端设备工作在所述预干扰频段时,将服务小区的测量结果设置为最低,或者将测量结果减去预设值;
判断子单元,用于根据测量结果和配置的测量事件判断是否发送测量上报消息;
上报子单元,用于当所述判断子单元的判断结果为是时发送测量上报消息。
9.如权利要求8所述的终端设备,其特征在于,所述测量处理子单元还用于:
当所述终端设备工作在所述预干扰频段时,对所有处于预干扰频段内的邻小区,不进行测量。
10.如权利要求7所述的终端设备,其特征在于,所述处理单元包括:
测量处理子单元,用于当所述终端设备工作在所述预干扰频段之外时,将所述预干扰频段对应的小区的测量结果设置为最低,或者将测量结果减去预设值,或者不对预干扰频段对应的小区进行测量;
上报子单元,用于发送测量上报消息,其中携带处理后的测量结果。
11.如权利要求7-10任一项所述的终端设备,其特征在于,所述当前工作系统具体为长期演进LTE系统。
12.如权利要求7-10任一项所述的终端设备,其特征在于,所述测量结果具体为参考信号接收功率RSPP和/或参考信号接收质量RSRQ。
13.一种避免设备内共存干扰的测量上报方法,其特征在于,包括:
终端获取当前工作系统的预干扰频段;
所述终端发送RRC消息通知网络侧终端当前工作在预干扰频段内,根据网络侧的信令从所述预干扰频段切换到其他频段对应的小区。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,所述当前工作系统具体为长期演进LTE系统。
15.一种终端设备,其特征在于,包括:
获取单元,用于获取当前工作系统的预干扰频段;
通知单元,用于发送RRC消息通知网络侧终端当前工作在预干扰频段内;
切换单元,用于根据网络侧的信令从当前服务小区切换到所述预干扰频段之外的频段对应的小区。
16.如权利要求15所述的终端设备,其特征在于,所述当前工作系统具体为长期演进LTE系统。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电信科学技术研究院,未经电信科学技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010249725.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:试剂调制装置以及试剂调制系统
- 下一篇:垂直二极管及其加工方法