[发明专利]两面曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种对印刷基板等的工件(work)的两面进行曝光的两面曝光装置。

背景技术

在印刷基板等中，有在工件的两面制作电路等的图案的情况。为此的曝光装置作为“两面曝光装置”而被公知。作为其中的一例，有记载于专利文献1的两面投影曝光装置。

被记载于该专利文献的两面投影曝光装置具备：光照射部，曝光平台，第1及第2掩模，保持这两枚掩模的掩模平台，投影透镜以及使工件反转的反转平台等。

该曝光装置在使用第1掩模曝光工件的第1面(表面)之后，通过反转平台使工件反转，使用第2掩模曝光第2面(背面)。由此，在工件的表面曝光形成于第1掩模的图案，而在工件的背面曝光形成于第2掩模的图案。

专利文献1：日本专利第4158514号公报

在专利文献1所记载的两面投影曝光装置中，工件的曝光处理是所谓的“先入先出”，从先搬入装置的工件开始，依次地对表面与背面进行曝光，并从装置搬出。所以，用于表面的曝光的第1掩模及用于背面的曝光的第2掩模，按每一枚工件的处理来进行切换(更换)。

在该文献的图2、图3所记载的实施例的装置中，掩模平台能够装载表面用的第1掩模与背面用的第2掩模这两枚掩模，掩模的更换通过滑动移动掩模平台来进行。所以，掩模的更换时间约为较短的两秒钟。

在表面曝光用的掩模与背面曝光用的掩模的更换时间如上述那样较短的情况下，即使按每一枚工件的处理地实施掩模的更换，也不会降低生产能力(through-put)。即，工件的曝光处理的整体时间不会增加。这是因为，掩模的更换能够在曝光装置进行其它动作的期间进行。

但是，在专利文献1所记载的曝光装置中，由于滑动移动掩模而进行更换，因而无法实现使用大量掩模、一面更换掩模一面对每一工件曝光不同的大量的图案。

另一方面，如图9所示地，为了能够利用曝光装置来应对大量的图案的曝光，有按如下方式构成的结构：将大量掩模保管在掩模库(以下称为库)，利用被称为处理器(handler)的掩模搬运机构，从库中取出需要的掩模，将其替换地装载于掩模平台。

在图9中，1是光照射部，例如由灯1a与反射镜1b所构成，从光照射部1所放射的光，经由被载置于掩模平台2上的掩模、投影透镜3，照射到工件平台4上的工件W。

在掩模库6中收纳有多个掩模M1，M2，M3，…，更换掩模平台2上的掩模M时，掩模搬运机构5利用工件手柄(work hand)等来保持掩模平台2上的掩模M，沿着轨道5a移动，从而将掩模M收纳于掩模库6的规定位置。另外，掩模搬运机构5从掩模库6取出下一次所使用的掩模，沿着轨道5a移动并被载置于掩模平台2。

在采用图9所示的掩模的库与搬运机构的曝光装置的情况下，由于掩模的更换，是进行从掩模平台拆下要更换的掩模并将其搬运回收至库，并将新掩模搬运并载置于掩模平台这样的操作，因而对于每一次掩模花费大约30秒钟至30秒钟以上的时间。

若掩模的更换时间为大约30秒钟，则在上述专利文献1所述的曝光装置中，该时间无法被合并在曝光装置所进行的其它动作的时间中，从而成为等待掩模更换结束的等待时间。结果，处理一枚工件的时间会变长，而降低生产能力。

如上所述地，在切换专利文献1所记载的掩模而进行更换的结构中，能够迅速地进行掩模更换，但难以使用多枚掩模进行曝光，另外，如图9所示地，在具有掩模的库的结构中，能进行多枚掩模的更换，但掩模更换费时，从而存在生产能力降低的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而做出的，本发明的目的在于，在具备能够保管大量掩模而对其进行更换的掩模库的两面曝光装置中，提供一种能够缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力降低的两面曝光装置。

在本发明中，为了解决上述技术问题，对曝光装置设计掩模库与掩模搬运机构，在掩模库中收藏多枚掩模。并且，设置对完成了第1面(表面)的曝光的工件进行保管的工件保管部，而且，在载置并曝光工件的工件平台与工件保管部之间，设置进行工件的反转的反转平台部，在工件平台与反转平台部、反转平台部与工件保管部之间，设置搬运工件的工件搬运机构。

于是，如下地进行曝光处理。

(1)在掩模平台上载置表面曝光用的第1掩模。使工件表面朝上地被搬入至工件平台，对工件的表面进行曝光。

若表面的曝光结束，则将工件从工件平台搬运至反转平台部，反转平台部使工件反转。