[发明专利]平版印刷方法有效
| 申请号： | 201010253910.2 | 申请日： | 2010-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN101943860A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | D·王;G·G·巴克利;T·A·埃斯戴尔;K·J·斯皮祖科;D·康 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平版印刷 方法 | ||
1.一种处理光致抗蚀剂组合物的方法，所述方法包括：
(a)在基底上施加光致抗蚀剂组合物；
(b)将所述光致抗蚀剂层在辐射下浸没曝光以激活光致抗蚀剂组合物；
(c)调节所述曝光的光致抗蚀剂层的水接触角；和
(d)将处理后的光致抗蚀剂层显影得到光致抗蚀浮雕图象。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述曝光的光致抗蚀剂层的水接触角减小。
3.一种处理光致抗蚀剂组合物的方法，所述方法包括：
(a)在基底上施加光致抗蚀剂组合物；
(b)将所述光致抗蚀剂层在辐射下浸没曝光以激活光致抗蚀剂组合物；
(c)除去部分曝光的光致抗蚀剂层；和
(d)将处理后的光致抗蚀剂层显影得到光致抗蚀浮雕图象。
4.根据权利要求1到3中任一所述的方法，其中在显影前用流体组合物处理所述曝光的光致抗蚀剂层。
5.根据权利要求4所述的方法，其中所述流体组合物包括用于所述光致抗蚀剂组合物的非溶剂。
6.根据权利要求4所述的方法，其中所述流体组合物包括(i)一种或多种用于所述光致抗蚀剂组合物的非溶剂和(ii)一种或多种用于所述光致抗蚀剂组合物的溶剂。
7.根据权利要求1到6中任一所述的方法，其中所述光致抗蚀剂层利用碱性显影剂组合物溶液进行显影。
8.根据权利要求1到7中任一所述的方法，其中所述光致抗蚀剂组合物包括：
(i)一种或多种树脂，
(ii)一种光活性组分，和
(iii)基本上与一种或多种树脂不可混和的一种或多种材料。
9.根据权利要求1到8中任一所述的方法，其中所述光致抗蚀剂组合物包括：
(i)一种或多种树脂，
(ii)一种光活性组分，和
(iii)一种或多种材料，所述一种或多种材料包括1)Si取代基；2)氟取代基；3)超枝化聚合物；和/或4)聚合物颗粒。
10.根据权利要求8或9中任一所述的方法，其中所述一种或多种材料是树脂。
11.一种处理光致抗蚀剂组合物的方法，所述方法包括：
(a)在基底上施加光致抗蚀剂组合物；
(b)将所述光致抗蚀剂层在辐射下曝光以激活光致抗蚀剂组合物；
(c)除去部分但非全部曝光的光致抗蚀剂层；
(d)将处理后的光致抗蚀剂层显影得到光致抗蚀浮雕图象。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述曝光的光致抗蚀剂组合物用溶剂组合物处理，该溶剂组合物包括(i)一种或多种用于光致抗蚀剂组合物的非溶剂和(ii)一种或多种用于光致抗蚀剂组合物的溶剂。
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