[发明专利]含氮杂环取代的酰肼类化合物及其制备方法和用途

权利要求书

1.式I、式II或式III的化合物：

其中，

Ar选自取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂芳基，其中所述的取代基选自羟基、卤素、C₂-C₆链烯基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷基氧基、硝基、氰基、巯基、氨基、羧基、磺酰胺基；

X选自-CH₂-、-CH₂CH₂-、和-SO₂-；

Z为氮原子或碳原子；

n选自1、2、或3；和

R₁、R₂、R₃、R₄和R₅各自独立地选自氢原子、羟基、卤素、C₂-C₆链烯基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷基氧基、硝基、氰基，

或其药学可接受的盐、溶剂合物、立体异构体或前体药物。

2.权利要求1的化合物，其中：

Ar选自取代或未取代的芳基[例如是取代或未取代的苯基，特别是取代的苯基]、取代或未取代的杂芳基[例如取代或未取代的含氮的芳基]；

X选自-CH₂-、-CH₂CH₂-、和-SO₂-；

Z为氮原子；

n选自1、2、或3；和

R₁、R₂、R₃、R₄和R₅各自独立地选自氢原子、羟基、卤素、C₂-C₆链烯基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷基氧基，

或其药学可接受的盐、溶剂合物、立体异构体或前体药物。

3.权利要求1的化合物，其中：

Ar选自取代或未取代的芳基[例如是取代或未取代的苯基，特别是取代的苯基]、取代或未取代的杂芳基[例如取代或未取代的含氮的芳基]；

X选自-CH₂-、-CH₂CH₂-、和-SO₂-；

Z为氮原子或碳原子；

n为1；和

R₁、R₂、R₃、R₄和R₅各自独立地选自氢原子、羟基、卤素、C₂-C₆链烯基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷基氧基，

或其药学可接受的盐、溶剂合物、立体异构体或前体药物。

4.权利要求1的化合物，其中：

Ar选自取代或未取代的芳基[例如是取代或未取代的苯基，特别是取代的苯基]、取代或未取代的杂芳基[例如取代或未取代的含氮的芳基]；

X选自-CH₂-、-CH₂CH₂-、和-SO₂-；

Z为氮原子或碳原子；

n选自2；和

R₁、R₂、R₃、R₄和R₅各自独立地选自氢原子、羟基、卤素、C₂-C₆链烯基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷基氧基，

或其药学可接受的盐、溶剂合物、立体异构体或前体药物。