[发明专利]投影机

权利要求书

1.一种投影机，其特征在于，包括：发光装置、根据图像信息调制从所述发光装置出射的光的光调制装置以及投影通过所述光调制装置形成的图像的投影装置，

其中，所述发光装置具有：发光元件，所述发光元件是超发光二极管，并且通过在被第一覆层和第二覆层夹持的活性层中流通电流来发光；以及底座，所述底座用于支撑所述发光元件，并且形成有使从所述发光元件出射的光反射的第一反射面和第二反射面，

所述发光元件具有从第一端面和第二端面两处出射光的结构，

从所述发光元件的所述第一端面出射的第一出射光的方向与从所述发光元件的所述第二端面出射的第二出射光的方向互为相反方向，

所述第一反射面使所述第一出射光反射，

所述第二反射面使所述第二出射光反射，

通过所述第一反射面反射的所述第一反射光的方向与通过所述第二反射面反射的所述第二反射光的方向是相同方向。

2.根据权利要求1所述的投影机，其特征在于，

所述底座为在板状的部件上设置有凹部的结构，

所述凹部具有至少两个倾斜面，所述倾斜面相对于所述板状的部件的水平方向倾斜了45度，

所述发光元件被配置为与所述板状的部件的水平方向平行地出射光，

在两个所述倾斜面中的一个倾斜面上形成有所述第一反射面，在两个所述倾斜面中的另一个倾斜面上形成有所述第二反射面。

3.根据权利要求1所述的投影机，其特征在于，

所述底座为在板状的部件上设置有凹部的结构，

所述凹部具有为凹面形状的第一凹面和第二凹面，

在所述第一凹面上形成有所述第一反射面，

在所述第二凹面上形成有所述第二反射面。

4.根据权利要求3所述的投影机，其特征在于，

所述第一凹面和所述第二凹面是抛物面，

所述第一端面位于所述第一凹面的焦点处，

所述第二端面位于所述第二凹面的焦点处。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的投影机，其特征在于，

所述投影机还包括对所述第一反射光和所述第二反射光具有透过性的材质的盖，

所述发光元件通过所述盖进行密封。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的投影机，其特征在于，

所述底座的导热系数高于所述发光元件的导热系数。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的投影机，其特征在于，

在所述发光元件中，所述活性层被设置在所述底座侧。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的投影机，其特征在于，

在所述发光元件中，所述活性层被设置在所述底座侧的相反侧，

所述发光元件还具有形成有被所述第一覆层和所述第二覆层夹持的所述活性层的基板，

所述基板设置在所述活性层与所述底座之间。