[发明专利]非晶态氧化物半导体材料、场效应晶体管和显示装置有效
申请号: | 201010255843.8 | 申请日: | 2010-08-16 |
公开(公告)号: | CN102082170A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 滨威史;铃木真之;田中淳;望月文彦 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01L29/12 | 分类号: | H01L29/12;H01L29/786;H01L27/32 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶态 氧化物 半导体材料 场效应 晶体管 显示装置 | ||
1.一种非晶态氧化物半导体材料,所述非晶态氧化物半导体材料包含含有In、Ga和Zn的非晶态氧化物半导体,其中当In∶Ga∶Zn=a∶b∶c表示所述氧化物半导体的元素组成比时,所述元素组成比由下列范围限定:a+b=2,并且b<2,并且c<4b-3.2,并且c>-5b+8,并且1≤c≤2。
2.根据权利要求1所述的非晶态氧化物半导体材料,其中所述非晶态氧化物半导体材料的光学带隙等于或大于3.79eV。
3.一种非晶态氧化物半导体材料,所述非晶态氧化物半导体材料包含含有In、Ga和Zn的非晶态氧化物半导体,其中当In∶Ga∶Zn=a∶b∶c表示所述氧化物半导体的元素组成比时,所述元素组成比由下列范围限定:a+b=2,并且c<4b-3.2,并且c<-5b+8,并且1≤c,并且所述非晶态氧化物半导体材料的光学带隙等于或大于3.79eV。
4.一种场效应晶体管,所述场效应晶体管具有活性层,所述活性层包含根据权利要求1所述的非晶态氧化物半导体材料,并且所述活性层的电导率σ为10-9S/cm≤σ≤10-2S/cm。
5.根据权利要求4所述的场效应晶体管,其中所述非晶态氧化物半导体材料经过热处理。
6.一种显示装置,所述显示装置配备有根据权利要求4所述的场效应晶体管。
7.一种底部发光型显示装置,所述底部发光型显示装置包括:
基板;
根据权利要求4所述的场效应晶体管,所述场效应晶体管被安置在所述基板上并且具有底栅结构;和
有机电致发光元件,所述有机电致发光元件与所述基板上的所述场效应晶体管电连接,
其中由所述有机电致发光元件发射的光是从所述基板侧产生的。
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