[发明专利]有机发光二极管显示器的制造方法

说明书

本申请要求2009年11月6日提交的韩国专利申请No.10-2009-107018的优先权和权益，通过援引而将该专利申请的全部内容结合在此，如同在此被完整阐述一般。

技术领域

本文涉及一种有机发光二极管显示器的制造方法。

背景技术

近年来，已开发了各种能减小体积和重量的平板显示装置(“FPD”)，而就阴极射线管而言，体积和重量是不利因素。这些平板显示装置包括例如液晶显示器(“LCD”)、场发射显示器(“FED”)、等离子体显示面板(“PDP”)、和电致发光显示器(ELD)等。

在实现轻、薄(slim)以及大尺寸屏幕方面，因PDP的结构和制造工序简单，因而其最有优势，但是发光效率较低、发光度(luminance)低和功耗高是其缺点。TFT LCD(薄膜晶体管LCD)应用广泛，但是具有视角窄和响应速度慢的问题。ELD根据用于发射层的材料，主要分为无机发光二极管显示器和有机发光二极管显示器。两者之中，有机发光二极管显示器是自发光元件，具有响应速度快、发光效率高、发光度高和视角宽的优点。

有机发光二极管显示器包括如图1所示的有机发光二极管(“OLED”)。

OLED是一种将电能转化为光能的有机电子元件，具有发光的有机发射材料位于阴极电极“阴极”和阳极电极“阳极”之间的结构。从阳极电极注入(inject)空穴，从阴极电极注入电子。空穴和电子从这些电极注入到有机发射层EML，其发光从而形成激子(exciton)，OLED因激子返回到最低能级(bottom level)时产生的能量而发光。为了平滑地把空穴和电子从电极注入到发射层EML中，典型的是，在发射层EML和阳极电极之间设置一空穴传输(transport)层HTL和一空穴注入层HIL，在发射层EML和阴极电极之间设置一电子传输层ETL和一电子注入层EIL。就平滑的空穴注入而言，空穴注入层HIL和空穴传输层HTL具有最高已占分子轨道HOMO(highest occupiedmolecular orbital)能级，该能级对应于发射层EML与阳极电极之间的中间能级。另外，就平滑的电子注入而言，电子传输层ETL和电子注入层EIL具有最低未占分子轨道LUMO(lowest unoccupied molecular orbital)能级，该能级对应于阴极电极与发射层EML之间的中间能级。OLED元件的亮度(brightness)和效率特性由从阳极电极和阴极电极注入的空穴和电子的量确定。从阳极电极注入到发射层EML的空穴量和从阴极注入到发射层EML的电子量随着有机发射材料的能级而发生变化。

同时，在OLED显示器中，就全色的实现而言，每个红色、绿色和蓝色像素中设置OLED的位置处形成发射层EML。为每个像素而对发射层EML制作图案。形成发射层EML的方法有使用纯金属掩膜(fine metal mask，FMM)的方法、喷墨法、激光感应热成像(laser induced thermal imaging，LITI)或者类似的方法。

在纯金属掩膜(FMM)方法中，为每一个像素而使用一种金属精密掩膜(metal fine mask)对红色、绿色和蓝色发射材料制作图案以形成红像素、绿像素、和蓝像素。这种方法在元件特性方面具有优越性，然而，由于掩膜屏蔽(mask blocking)现象而使得成品率低，并且由于开发大尺寸的掩膜很困难，因此该方法很难应用于大尺寸显示装置。

喷墨方法由于发射层可以在选定区域形成并且对材料无损伤而具有优势，因此可以实现大尺寸屏幕和高清晰度，并使发光材料能具有高发光效率。然而，在喷墨方法中，需要精确调整从喷嘴喷出墨的量、速度、均匀的喷射角度等等，而且，为了实现低成本和大尺寸屏幕，需要开发用于高速喷射的喷墨头并增加喷墨头数量。另外，要求薄膜的质量和厚度是统一的，用以保证像素内部都发光良好；然而，出现一种所谓的咖啡渍效应(coffee stain effect)，在该效应下，在使墨滴变干的过程中薄膜的边缘变得更厚，从而加厚该边缘。