[发明专利]涡流溶气气浮系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种溶气气浮系统，特别是一种涡流溶气气浮系统。

背景技术

涡流气浮设备主要由空气饱和设备、空气释放及与废水相混合的设备、固-液或液-液分离设备三部分组成。其中溶气和释放系统为整个溶气气浮的核心，溶气的气液混合比、释放气泡的大小、密度、分布等都对气浮的处理效果有着至关重要的影响。传统的溶气气浮系统在出水时，气浮浮渣区域和沉淀区域的水力扰动，容易同时将浮在水面上的浮渣以及沉在水底的沉淀同时吸入清水室，从而造成出水净化不彻底；刮渣装置在调试时，没有达到合理的刮渣水位，导致刮渣不彻底。

发明内容

本发明的目的就是为了避免背景技术中的不足之处，提供一种涡流溶气气浮系统，其具备有避免出水不平稳的集水管和调整水位的水位调节装置。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：涡流溶气气浮系统，包括箱体和气液循环系统，箱体内依次设有气浮接触室、分离室和清水室，分离室上方设有刮渣装置，刮渣装置右侧设有排渣口，箱体左侧设有与气浮接触室连通的污水进口，箱体右侧设有与清水室连通的清水出口，气液循环系统分别与气浮接触室和清水室连通，气浮接触室上端与分离室连通，分离室与清水室之间通过集水管连通，集水管包括主管和若干附管，若干附管分别位于主管两侧，其一端封闭，另一端分别与主管连通，且附管的管壁上分别设有若干均匀排布的通水孔。

对于本发明的一种优化，所述附管分别与箱体的底面平行设置。

对于本发明的一种优化，所述通水孔分别设置在附管的两侧，且其开口朝下。

对于本发明的一种优化，所述分离室的底部设有排泥系统，排泥系统包括若干泥斗、设置在泥斗下方排泥口和位于箱体底部外侧与排泥口连通的排泥管。

对于本发明的一种优化，所述主管位于清水室内一端开口朝上。

对于本发明的一种优化，清水室上端设有水位调节板，水位调节板上端与丝杆连接，所述丝杆与清水室上端箱体壁上螺纹安装孔啮合。

对于本发明的一种优化，气浮接触室与分离室之间设有使气浮接触室上端与分离室连通的导流板，导流板的倾斜角为45度至85度。

对于本发明的一种优化，所述气浮接触室内设有隔板，隔板上端与气浮接触室上端的顶壁连接，其下端与气浮接触室底壁设有间隙。

对于本发明的一种优化，所述水位调节板与清水室内壁密封连接。

本发明与背景技术相比，具有结构简单、制造方便，均匀收集清水，减小出水对分离室的水力搅动，从而避免浮渣和沉淀混入清水室，使出水澄清度达到最优；清水室内水位通过手动调节的丝杆，使水位调节板上下调整位置，调节清水室水位高低，从而间接调节分离室内水位高低，保证刮渣装置的入水深度，以便达到所需的刮渣量。

附图说明

图1是涡流溶气气浮系统的结构示意图。

图2是集水管的结构示意图。

图3是主管的结构示意图。

图4是附管的结构示意图。

图5是附管A-A截面放大图。

具体实施方式

实施例1：参照图1~5。涡流溶气气浮系统，包括箱体1和气液循环系统15，箱体1内依次设有气浮接触室2、分离室7和清水室13，分离室7上方设有刮渣装置5，刮渣装置5右侧设有排渣口9，箱体1左侧设有与气浮接触室2连通的污水进口16，箱体1右侧设有与清水室13连通的清水出口14，气液循环系统15分别与气浮接触室2和清水室13连通，气浮接触室2上端与分离室7连通，分离室7与清水室13之间通过集水管连通，集水管包括主管10和若干附管8，若干附管8分别位于主管10两侧，附管8一端封闭，另一端分别与主管10两侧的连接口10-2连通，且附管8的管壁上分别设有若干均匀排布的通水孔8-1。所述附管8分别与箱体1的底面平行设置。所述通水孔8-1分别设置在附管8的两侧，且其通水孔8-1的开口方向朝下。所述分离室7的底部设有排泥系统6，排泥系统6包括若干泥斗6-1、设置在泥斗6-1下方排泥口6-2和位于箱体1底部外侧与排泥口6-2连通的排泥管6-3。所述主管10位于清水室13内一端的开口10-1朝上。清水室13上端设有水位调节板12，水位调节板12上端与丝杆11连接，所述丝杆11与清水室13上端箱体1上螺纹安装孔啮合。所述水位调节板12与清水室13内壁密封连接。气浮接触室2与分离室7之间设有使气浮接触室2上端与分离室7连通的导流板4，导流板4的倾斜角为45度至85度。所述气浮接触室2内设有隔板3，隔板3上端与气浮接触室2上端的顶壁连接，其下端与气浮接触室2底壁设有间隙。

需要理解到的是：本实施例虽然对本发明作了比较详细的说明，但是这些说明，只是对本发明的简单说明，而不是对本发明的限制，任何不超出本发明实质精神内的发明创造，均落入本发明的保护范围内。