[发明专利]二酚二乙烯基醚缩醛聚合物及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种高分子聚合物材料及其制备方法，具体为一种二酚二乙烯基醚缩醛聚合物及其制备方法。

背景技术

常见的光致抗蚀剂的成像原理是把碱溶性的基团如酚羟基和羧基保护起来成为碱不溶的可酸分解基团，如酯基或缩醛。这些可酸分解基团在光产酸剂作用下分解，重新变为碱可溶，因此可进行稀碱水显影成像。近年来文献报道了一类新型光致抗蚀剂体系由二乙烯基醚化合物和成膜树脂组成，这些二乙烯基醚化合物包括芳香族和脂肪族的二乙烯基醚，成膜树脂有酚醛树脂和含有部分羧基的聚甲基丙烯酸酯衍生物。由这些化合物和光产酸剂组成的抗蚀剂膜层，在预烘之后，聚合物中的酚羟基或羧基和二乙烯基醚化合物发生缩醛化反应，形成交联结构，再经曝光和后烘发生解交联反应，从而使曝光区具有碱溶性，可以通过稀碱水显影得到正性图象，因而是一种正型光致抗蚀剂材料。

随着本领域技术的不断发展，对于光致抗蚀剂的需求量及应用范围越来越大，这就要求人们不断研发出新的能应用于光致抗蚀剂的聚合物。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新的能应用于光致抗蚀剂的二酚二乙烯基醚缩醛聚合物及其制备方法。

本发明是采用如下技术方案实现的：一种二酚二乙烯基醚缩醛聚合物，结构通式（Ⅰ）如下所示：

，

其数均分子量为3000-10000；

式中，R₁、R₀为如下基团的任意一种：

R₁ 为       ，此时，m=1，R₀为：－CH₂－ 或无基团；

或者R₁为：－CH₂－，此时，m＝0－4，R₀为：－CH₂－；

或者R₁为：－CH₂OCH₂－，此时，m＝1－3，R₀为：－CH₂－；

R₂为如下芳香族基团的任意一种：

 、    、     、   

 、   、     、     、

   、    、    、   。

根据聚合物分子量测定的结果，这些聚合物在现有的聚合条件下其数均分子量为3000～10000、重均分子量为4000～12000，可知其平均聚合度n<30。

制备所述二酚二乙烯基醚缩醛聚合物的方法，合成方法为：将二酚（Ⅲ）与二乙烯基醚化合物（Ⅱ）在有机溶剂存在下加热进行聚合反应而得到，二酚（Ⅲ）与二乙烯基醚化合物（Ⅱ）的反应摩尔比为1～1.05∶1，反应加热温度为100～160℃，反应时间为3～9小时；二乙烯基醚化合物（Ⅱ）与二酚（Ⅲ）的结构通式分别如下所示：

 ，  ，式中，R₁、R₀、m及R₂的定义如前所述（即通式Ⅰ中所限定）。