[发明专利]光学元件、成像光学系统和成像设备有效
申请号: | 201010260665.8 | 申请日: | 2010-08-19 |
公开(公告)号: | CN102004369A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 山野裕贵 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G03B11/04 | 分类号: | G03B11/04;G02B5/22;G02B27/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 郭定辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 成像 光学系统 设备 | ||
1.一种光学元件,包括:
基底材料,由具有红外吸收作用的膜状树脂材料形成;以及
多层式膜,其调整光谱特性,并形成在基底材料的物侧表面和像侧表面上,
将所述光学元件布置在成像光学系统的光路上,并且所述光学元件具有这种特性:物侧表面和像侧表面上的其光谱透射率以及其光谱反射率满足如下条件(1)到(4)
(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95
(2)615<λLT50%<670
(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05
(4)680≤λLR50%,
其中
TIRCF(600)是具有600nm波长的光的光谱透射率,
TIRCF(540)是具有540nm波长的光的光谱透射率,
λLT50%是在50%光谱透射率处的近红外光的波长,
TIRCF(700)是具有700nm波长的光的光谱透射率,以及
λLR50%是在50%光谱反射率处的近红外光的波长,
其中波长的单位是nm。
2.根据权利要求1所述的光学元件,其中将所述光学元件布置在成像器件与成像光学系统中最靠近图像布置的透镜之间。
3.根据权利要求1所述的光学元件,其中物侧表面和像侧表面上的光谱反射率满足如下条件(5)
(5)λLR50%[A]≥λLR50%[B],
其中λLR50%[A]是物侧表面上50%光谱反射率处的近红外光的波长,而λLR50%[B]是像侧表面上50%光谱反射率处的近红外光的波长。
4.根据权利要求1所述的光学元件,其中在基底材料和基底材料的两个表面上形成的多层式膜的总厚度为120μm或更小。
5.根据权利要求1所述的光学元件,其中所述基底材料由聚烯树脂构成。
6.根据权利要求1所述的光学元件,其中所述基底材料包含至少一种有机色素作为具有红外吸收作用的着色剂。
7.一种成像光学系统,包括:
至少一个透镜或透镜元件;
光学元件;以及
成像器件,
该至少一个透镜或透镜元件、光学元件和成像器件布置在光路上,
所述光学元件包括
基底材料,由具有红外吸收作用的膜状树脂材料形成,以及
多层式膜,其调整光谱特性,并且形成在基底材料的物侧表面和像侧表面上,以及
所述光学元件具有这种特性:在物侧表面和像侧表面上的其光谱透射率以及其光谱反射率满足如下条件(1)到(4)
(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95
(2)615<λLT50%<670
(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05
(4)680≤λLR50%,
其中
TIRCF(600)是具有600nm波长的光的光谱透射率,
TIRCF(540)是具有540nm波长的光的光谱透射率,
λLT50%是在50%光谱透射率处的近红外光的波长,
TIRCF(700)是具有700nm波长的光的光谱透射率,以及
λLR50%是在50%光谱反射率处的近红外光的波长,
其中波长的单位是nm。
8.一种成像设备,包括:
成像光学系统,包括
至少一个透镜或透镜元件;
光学元件;以及
成像器件,
该至少一个透镜或透镜元件、光学元件和成像器件布置在光路上,
所述光学元件包括
基底材料,由具有红外吸收作用的膜状树脂材料形成,以及
多层式膜,其调整光谱特性,并且形成在基底材料的物侧表面和像侧表面上,以及
所述光学元件具有这种特性:在物侧表面和像侧表面上的其光谱透射率以及其光谱反射率满足如下条件(1)到(4)
(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95
(2)615<λLT50%<670
(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05
(4)680≤λLR50%,
其中
TIRCF(600)是具有600nm波长的光的光谱透射率,
TIRCF(540)是具有540nm波长的光的光谱透射率,
λLT50%是在50%光谱透射率处的近红外光的波长,
TIRCF(700)是具有700nm波长的光的光谱透射率,以及
λLR50%是在50%光谱反射率处的近红外光的波长,
其中波长的单位是nm。
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