[发明专利]基板保持设备、掩模定位方法以及真空处理设备有效

专利信息
申请号: 201010262547.0 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN101996919A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 岛根由光;山口述夫 申请(专利权)人: 佳能安内华股份有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;C23C14/50;C23C14/34
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 保持 设备 定位 方法 以及 真空 处理
【权利要求书】:

1.一种掩模定位方法,其用于基板保持设备,所述基板保持设备包括:

基板保持件,其能够保持基板;

掩模,其将被置于所述基板保持件上,并且使得基板介于所述掩模和所述基板保持件之间;

第一接合部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的任一方,并且所述第一接合部具有两个突起部;

第二接合部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的任一方,并且所述第二接合部具有至少一个突起部;

第一槽部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的另一方,以与所述第一接合部的突起部接合;以及

第二槽部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的另一方,以与所述第二接合部的突起部接合,

所述掩模定位方法包括以下步骤:

使所述第一接合部的突起部与所述第一槽部接合,以使所述掩模在第一方向上与所述基板保持件相对定位;和

使所述第二接合部的突起部与所述第二槽部接合,以使所述掩模在与所述第一方向垂直的方向上与所述基板保持件相对定位。

2.一种基板保持设备,其包括:

基板保持件,其能够保持基板;

掩模,其将被置于所述基板保持件上,并且使得基板介于所述掩模和所述基板保持件之间;

第一接合部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的任一方,并且所述第一接合部具有两个突起部;

第二接合部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的任一方,并且所述第二接合部具有比所述第一接合部的突起部短的至少一个突起部;

第一槽部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的另一方,以与所述第一接合部的突起部接合;以及

第二槽部,其形成于所述基板保持件和所述掩模中的另一方,以与所述第二接合部的突起部接合,

其中,在使所述掩模位于所述基板保持件上的状态下,所述第二接合部的突起部位于与通过所述第一接合部的两个突起部的直线垂直的线上。

3.根据权利要求2所述的基板保持设备,其特征在于,

所述第一接合部的两个突起部具有形成于该两个突起部的一端的第一锥状面,并且所述第一接合部的两个突起部的另一端被连接至所述基板保持件和所述掩模中的任一方,

所述第二接合部的突起部具有形成于该突起部的一端的第二锥状面,并且所述第二接合部的突起部的另一端被连接至所述基板保持件和所述掩模中的任一方,以及

在所述基板保持件和所述掩模彼此接合的方向上,形成所述第一接合部的两个第一锥状面的区域与形成所述第二接合部的第二锥状面的区域彼此不重叠。

4.根据权利要求2所述的基板保持设备,其特征在于,所述第一接合部的两个突起部均具有形成于该两个突起部的所述另一端所在的一侧的窄部。

5.根据权利要求2所述的基板保持设备,其特征在于,所述第一槽部和所述第二槽部是在朝向所述掩模和所述基板保持件中的任一方的中心的方向上长的长开口。

6.根据权利要求2所述的基板保持设备,其特征在于,所述第二接合部的突起部的数量是1个。

7.根据权利要求2所述的基板保持设备,其特征在于,用TiN和DLC中的任意一种涂覆所述第一接合部的表面和所述第二接合部的表面。

8.根据权利要求2所述的基板保持设备,其特征在于,所述第一接合部和所述第二接合部包含绝缘陶瓷。

9.一种真空处理设备,其包括用于在真空环境下对基板进行真空处理的处理室,其中,所述处理室设置有权利要求2所述的基板保持设备。

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