[发明专利]疏水化处理装置、疏水化处理方法以及存储介质

权利要求书

1.一种疏水化处理装置，其特征在于，

该疏水化处理装置包括：

气化面形成部，其表面位于气化室内；

气化面加热部件，其用于加热上述气化面形成部；

药液供给口，其用于将疏水化处理用的药液供给到上述气化面形成部的表面上；

气体导入口，其用于将载气导入上述气化室内；

引出口，其用于引出在上述气化室内被气化了的疏水化气体；

处理容器，其用于利用自上述引出口供给的疏水化气体对被载置在该处理容器内部的基板进行疏水化处理。

2.根据权利要求1所述的疏水化处理装置，其特征在于，

上述气化室被设在上述处理容器的顶板上。

3.根据权利要求1或2所述的疏水化处理装置，其特征在于，

上述气化面形成部形成为随着向下方去而逐渐变宽的形状，上述药液供给口位于上述气化面形成部的上方侧。

4.根据权利要求3所述的疏水化处理装置，其特征在于，

在上述气化面形成部上形成有用于使药液利用毛细管现象扩散的槽部。

5.根据权利要求1或2所述的疏水化处理装置，其特征在于，

该疏水化处理装置具有气体加热部件，在将上述载气导入气化室之前，利用该气体加热部件加热上述载气。

6.根据权利要求1或2所述的疏水化处理装置，其特征在于，

该疏水化处理装置还包括：浓度检测部，其用于检测自上述引出口引出的疏水化气体的浓度；控制部，其根据该浓度检测部的检测值输出控制信号，以增加自药液供给口供给到气化室中的药液的供给流量。

7.根据权利要求6所述的疏水化处理装置，其特征在于，

在即使增加了药液的供给流量而浓度检测部的检测值仍低于规定值时，上述控制部输出控制信号，以升高气化面加热部件的加热温度。

8.一种疏水化处理方法，其特征在于，

该疏水化处理方法包括下述工序：

利用气化面加热部件加热气化面形成部的工序，该气化面形成部的表面位于气化室内；

利用药液供给口将疏水化处理用的药液供给到上述气化面形成部的表面上的工序；

自气体导入口将载气导入上述气化室内的工序；

自引出口引出在上述气化室内被气化了的疏水化气体的工序；

将基板载置在处理容器内的工序；

利用自上述引出口供给的疏水化气体对基板进行疏水化处理的工序。

9.根据权利要求8所述的疏水化处理方法，其特征在于，

该疏水化处理方法还包括在上述气化面形成部上形成槽部且利用毛细管现象使药液在上述槽部中扩散的工序。

10.根据权利要求8或9所述的疏水化处理方法，其特征在于，

该疏水化处理方法还包括在将上述载气导入气化室之前利用气体加热部件加热该载气的工序。

11.根据权利要求8或9所述的疏水化处理方法，其特征在于，

该疏水化处理方法还包括下述工序：

利用浓度检测部检测自上述引出口引出的疏水化气体的浓度的工序；

根据该浓度检测部的检测值增加自药液供给口供给到气化室中的药液的供给流量的工序。

12.根据权利要求11所述的疏水化处理方法，其特征在于，

该疏水化处理方法还包括在即使增加了药液的供给流量而浓度检测部的检测值仍低于规定值时升高气化面加热部件的加热温度的工序。

13.一种存储介质，其存储有疏水化处理装置所用的计算机程序，该疏水化处理装置用于将疏水化气体供给到处理容器内的基板上，其特征在于，

在上述程序中编有用于执行疏水化处理方法的步骤组，该疏水化处理方法是权利要求8～12中任一项所述的疏水化处理方法。