[发明专利]光学元件和制造光学元件的方法有效
申请号: | 201010265375.2 | 申请日: | 2010-08-26 |
公开(公告)号: | CN102004271A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 远藤惣铭;林部和弥 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴孟秋;梁韬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 制造 方法 | ||
1.一种具有防反射功能的光学元件,包括:
基体,具有第一主表面和第二主表面;
多个结构体,由凸部或凹部组成,并且以等于或小于反射量将被降低的可见光的波长的微小节距而配置在所述第一主表面上;以及
光吸收层,吸收所述光并且被布置在所述第二主表面上,
其中,所述结构体被配置为在所述基体的所述第一主表面上形成多列轨迹,并形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或者准四方点阵图案,以及
各个所述结构体具有椭圆锥形状或者截顶椭圆锥形状,其长轴方向为所述轨迹的延伸方向。
2.根据权利要求1所述的光学元件,其中,各个所述轨迹具有直线状或者圆弧状。
3.根据权利要求1所述的光学元件,其中,各个所述轨迹具有蛇行形状。
4.根据权利要求1所述的光学元件,其中,各个所述结构体具有锥形,其中,顶部的斜度较缓和,并且所述斜度从中央部至底部逐渐变陡峭。
5.根据权利要求1所述的光学元件,
其中,所述结构体被配置为形成多列直线状轨迹,并且形成准六方点阵图案,以及
各个所述结构体在所述轨迹的延伸方向上的高度或深度小于各个所述结构体在所述轨迹的列方向上的高度或深度。
6.根据权利要求1所述的光学元件,
其中,所述结构体被配置为形成多列直线状轨迹,并形成四方点阵图案或者准四方点阵图案,以及
各个所述结构体在相对于所述轨迹的延伸方向倾斜的配置方向上的高度或深度小于各个所述结构体在所述轨迹的延伸方向上的高度或深度。
7.根据权利要求1所述的光学元件,其中,同一轨迹中的所述结构体的配置节距P1大于两个相邻轨迹之间的所述结构体的配置节距P2。
8.根据权利要求1所述的光学元件,
其中,所述结构体在所述第一主表面上形成六方点阵图案或者准六方点阵图案,以及
当同一轨迹中的所述结构体的配置节距由P1来表示,并且两个相邻轨迹之间的所述结构体的配置节距由P2来表示时,比率P1/P2满足关系1.00≤P1/P2≤1.1或者1.00<P1/P2≤1.1。
9.根据权利要求1所述的光学元件,
其中,所述结构体在所述第一主表面上形成四方点阵图案或者准四方点阵图案,以及
当同一轨迹中的所述结构体的配置节距由P1来表示、并且两个相邻轨迹之间的所述结构体的配置节距由P2来表示时,比率P1/P2满足关系1.4<P1/P2≤1.5。
10.根据权利要求1所述的光学元件,还包括布置在所述光吸收层上的粘合层。
11.一种具有防反射功能的光学元件,包括:
基体,具有第一主表面和第二主表面;
多个结构体,由凸部或凹部组成,并且以等于或小于反射量将被降低的可见光的波长的微小节距而被配置在所述第一主表面上;以及
光吸收层,吸收所述光并且被布置在所述第二主表面上,
其中,所述结构体被配置为在所述第一主表面上形成多列轨迹,并形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或者准四方点阵图案,以及
所述结构体对所述基体的所述第一主表面的填充率为65%以上。
12.一种具有防反射功能的光学元件,包括:
基体,具有第一主表面和第二主表面;
多个结构体,由凸部或凹部组成,并且以等于或小于反射量将被降低的可见光的波长的微小节距而被配置在所述第一主表面上;以及
光吸收层,吸收所述光并且被布置在所述第二主表面上,
其中,所述结构体被配置为在所述第一主表面上形成多列轨迹,并形成准六方点阵图案,以及
当同一轨迹中的所述结构体的配置节距由P1来表示、并且各个所述结构体的底面在所述轨迹的延伸方向上的直径由2r来表示时,所述直径2r与所述配置节距P1的比率((2r/P1)×100%)为85%以上。
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