[发明专利]液晶显示器的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示器的制造方法。

背景技术

目前，传统的CRT显示器依靠阴极射线管发射电子撞击屏幕上的荧光粉来显示图像，但液晶显示的原理则完全不同。通常，液晶显示（LCD）装置具有上基板和下基板，彼此有一定间隔和互相正对。形成在两个基板上的多个电极相互正对。液晶夹在上基板和下基板之间。电压通过基板上的电极施加到液晶上，然后根据所作用的电压改变液晶分子的排列从而显示图像、因为如上所述液晶显示装置不发射光，它需要光源来显示图像。因此，液晶显示装置具有位于液晶面板后面的背光源。根据液晶分子的排列控制从背光源入射的光量从而显示图像。如图1所示，在两块偏光片之间夹有玻璃基板、彩色滤光片、电极、液晶层和晶体管薄膜，液晶分子是具有折射率及介电常数各向异性的物质。背光源发出的光线经过下偏光片，成为具有一定偏振方向的偏振光。晶体管控制电极之间所加电压，而该电压作用于液晶来控制偏振光的偏振方向，偏振光透过相应的彩膜色层后形成单色偏振光，如果偏振光能够穿透上层偏光片，则显示出相应的颜色；电场强度不同，液晶分子的偏转角度也不同，透过的光强不一样，显示的亮度也不同。通过红绿蓝三种颜色的不同光强的组合来显示五颜六色的图像。

上述的显示装置的一般制备过程是：在含有多个显示器件图形的阵列基板侧的导电层上进行封框胶涂布，液晶滴下，然后将两块基板进行贴合，然后进行切割，得到单个显示器件后贴附偏光板，最后组装成显示器。

在这一生产过程中阵列基板很容易受到来自外部的静电荷，这些静电荷将对显示器件上的薄膜晶体管产生击穿破坏，造成显示器件的损坏。如图2所示，因此在阵列基板上的显示器件上会设置保护回路，并且这些显示器件的保护回路最终会通过显示器件外的导电层图形连通在一起（如图3所示）。当一个显示器件上接受到来自外部的静电荷时，通过这些回路，使得静电荷能迅速分散到整个阵列基板上，降低静电电压，减少静电荷对显示器件的破坏。

在实际产品的制造和使用过程中，由于这些导电层图形的面积较小，并且距离较长，距离较远的两端间的电阻较大，不适合电荷快速转移，因此当外来静电电荷较多或者阵列基板上累积静电荷过多的情况时，还是会对显示器件造成静电破坏。

虽然在阵列基板上的显示器件上会设置保护回路，但是在实际产品的制造和使用过程中，由于这些导电层图形的面积较小，并且距离较长，距离较远的两端间的电阻较大，不适合电荷迅速转移，因此当外来静电电荷较多或者阵列基板上累积静电荷过多的情况时，还是会对显示器件造成静电破坏。

发明内容

本发明的目的是针对现有的阵列基板导电层导电性能较差，易引起局部静电集中，造成显示器的破坏，发明一种能迅速将静电均匀分布到整个阵列基板上的液晶显示器的制造方法。

本发明的技术方案是：

一种液晶显示器的制造方法，它包括以下步骤：

（1）在含有多个显示器件图形的阵列基板侧的导电层上涂布封框胶；

（2）向阵列基板上无封框胶的区域滴入液晶；

（3）将将彩膜基板与阵列基板进行帖合；

（4）对前述帖合后的阵列基板进行切割得到单个显示器；

（5）对切割后的单个显示器帖附偏光板，最后组装得到液晶显示器；

其特征是所述的封框胶中含有导电金球，通过导电金球使得阵列基板的防止静电的导电层和彩膜基板上整面分布的导电层导通。

所述的阵列基板和彩膜基板上的导电层为铟锡氧化物（ITO），膜厚在100埃到2000埃之间。

所述的导电金球为表面涂覆有金属层的球形树脂粒子，金属层的厚度在100埃到2000埃间，导电金球的直径在3um 到10um间，单个金球的导通电阻在1欧姆到50欧姆间，导电金球在封框胶中的质量调和比在0.1%到1%间。

4、根据权利要求1或3所述的方法，其特征是所述的导电金球为含有金或镍层的球形树脂粒子。

为了解决上述问题，本发明通过在阵列基板侧的显示器件外的防止静电回路的导电层上涂布含有导电金球的封框胶，通过金球使得阵列基板的防止静电回路和彩膜基板上整面分布的导电层导通，使得该回路上的静电电荷能快速释放到对侧的彩膜基板的导电层上，降低阵列基板侧静电电压，从而降低静电电荷对阵列基板上电子元件的损伤，降低由于静电引起的产品不良的发生率。

本发明的有益效果：