[发明专利]利用金属介质的超声波干式清洗机有效
申请号: | 201010268837.6 | 申请日: | 2010-08-27 |
公开(公告)号: | CN102101118A | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
发明(设计)人: | 邢南新;崔英默;尹英石;石现护 | 申请(专利权)人: | 汉松有限公司 |
主分类号: | B08B11/00 | 分类号: | B08B11/00;B08B7/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 金龙河;樊卫民 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 金属 介质 超声波 清洗 | ||
技术领域
本发明是关于利用金属介质的超声波干式清洗机,具体地说,就是关于对基板进行干式清洗时,通过破坏以一定的速度移动的基板上所形成的、具有25μm厚度的边界层,以消除其领域内基板上所附着的非粘着性异物质的,利用金属介质的超声波干式清洗机的。
技术背景
PDP,LCD,AMOLED等显示屏(Display)用玻璃基板或胶片(Film)或半导体干胶片等的表面,应该通过清洗,维持其表面没有异物质的状态。如果以表面存在异物质的状态,进行加工,那么,最终产品上,就会发生缺陷,从而生产出不良品,最后导致生产收获(得)率下降。
清洗方法,大体上可分为湿式清洗(Wet Cleaning)和干式清洗(Dry Ceaning)等两种方法。
上述的所谓湿式清洗(Wet Cleaning),是指依此经过有机清洗、纯水清洗、无机清洗、干燥阶段,将如同粘着性物质油污、胶带(Tape)痕迹、手油渍等以有机粘合剂相连接的无机物等,用非接触性方法,切断有机粘合剂,从而变成无机物化的清洗方法。这样的有机清洗方法的种类,有EUV、AP Plasma(上压Plasma)、低温UV清洗等。虽然,EUV及UV清洗方法的技术成熟而稳定,但是,在清洗最近的大型玻璃(Glass)、或清洗短的TAT方面,却表现为技术有限。
尤其,高输出(功率)EUV的情况下,由于其寿命只有1000小时(Hr),因此,灯(Lamp)更换费用比较大。真空等离子体(Plasma)主要用于半导体中,一部分使用于干式蚀刻(Dry Etch)前、后,但是,以清洗目的,使用于FPD上等事情,几乎没有。AP等离子(AP Plasma),使用于不是以清洗为目的,而是以有助于清洗为目的而使用。由于,清除所形成的臭氧(O3),需要大容量的排气管(Exhaust),又因为氮气(N2)、氦气(Helium)、清洁干燥空气CDA(Clean Dry Air)等的持续性消耗,以及产品(Utility)的大型化、阴极管(cathode)寿命短等原因,空间及维修保养(Maintenance)等,将会受制约的。
另外,上述所谓的干式清洗,是指经过有机清洗及无机清洗而完成清洗的,是把如同非粘着性异物质的灰尘的无机物,用非接触性方法,进行浮游化后,清洗的方法。这样的无机清洗方法的种类,有滚刷(Roll brush)、喷水式(Water jet)、喷泡沫式(Bubble jet)、气刀(Air knife)、以及使用超声波清洗机的方法等。
一方面,PDP、LCD、AMOLED等显示屏用玻璃基板或胶片(Film)或半导体体干胶片(wafer:晶圆)等,结束有机清洗后,在维持其清洁状态的清洁房(Clean Room)内部的匣子(Cassette)里,累积成多层,进行保管。在这样进行保管时,随着在匣子(Cassette)内部保管时间的经过,就会发生清洁房内部所存在的浮游性异物质(例如,如同玻璃粉等因其重量而降落到基板上的非粘着性物质或头屑、灰尘等浮游物质),重新降落到基板上的问题。如果发生这样的问题,那么,为了制造上述PDP、LCD、AMOLED等显示屏(Display)用玻璃基板或半导体胶片(Wafer)晶圆),而进行基板的露光、真空蒸镀膜、溅(Spattering)时,会出现缺陷(Defect),从而导致严重的质量问题,因此,一般使用干式清洗机(Dry Cleaner),进行干式清洗。
根据这样的目的使用的,从前的干式清洗机,有如同上述的有滚刷(Roll brush)、喷水式(Water jet)、喷泡沫式(Bubble jet)、气刀(Air knife)、以及超声波清洗机等。
其中,气刀(Air knife),只能消除在基板上所形成的因流体而形成的油膜,即,在边界层上的厚度25μm以上的异物质。它不能消除厚度25μm以下的物质的原因是,气刀(Air knife)的压缩空气,不能消除25μm以内的油膜(边界层)。因此,边界层内部所存在的3μm程度的非粘着性异物质,当基板以一定速度移动时,与基板相接触的流体,不能破坏随着基板的阻抗而形成的油膜(边界层)。因此,不能清洗。
为解决象这样的从前的接触式干式清洗装置所存在的问题,而诞生的清洗机,就是通过破坏边界层(油膜),来消除其内部所存在的异物质的,超声波干式清洗机。
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