[发明专利]抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法有效

专利信息
申请号: 201010273819.7 申请日: 2010-09-06
公开(公告)号: CN101976796A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 孟涛;唐景平;胡俊江;温磊;陈力;陈伟;胡丽丽 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: H01S3/08 分类号: H01S3/08;H01S3/10
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 抑制 尺寸 片状 激光 玻璃 放大 自发辐射 方法
【权利要求书】:

1.一种抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:

(一)选取与所述的片状激光钕玻璃相匹配的吸收玻璃和有机粘接剂:该吸收玻璃的热膨胀系数与所述的片状激光钕玻璃的热膨胀系数的差值小于2%,所述的吸收玻璃在激光波长的折射率n1大于所述片状激光钕玻璃在激光波长的折射率n2,且n1-n2=0.0005~0.005;选取有机粘接剂,该有机粘接剂和所述片状激光钕玻璃在激光波长的折射率匹配,所述的有机粘接剂在激光波长的折射率n3,要求满足关系式:n2<n3<n1

(二)所述的片状激光钕玻璃和吸收玻璃板条的加工和粘贴:对所述的片状激光钕玻璃的周边选配尺寸相适应的吸收玻璃板条并进行光学加工,经处理后,用所述的有机粘接剂,将所述的吸收玻璃板条紧密地粘贴在所述的片状激光钕玻璃的周边上;

(三)片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光:将周边都粘贴了所述的吸收玻璃板条的片状激光钕玻璃进行外部尺寸整形,对所述的片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光并达到设计要求。

2.根据权利要求1所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的第(二)步包括下列具体步骤:

①对所述的片状激光钕玻璃的周边的相间隔的侧边进行光学加工,根据所述的片状激光钕玻璃的相间隔的侧边的尺寸,选配尺寸相适应的吸收玻璃板条,并对所述的吸收玻璃板条进行光学加工;

②对所述的片状激光钕玻璃和所述的吸收玻璃板条进行光学加工后的光学平面,实施酸性物质处理和偶联剂处理;

③用所述的有机粘接剂,将所述的吸收玻璃板条紧密地粘贴在所述 的片状激光钕玻璃的相应的侧边上;

④对所述的片状激光钕玻璃尚未粘贴吸收玻璃板条的侧边一一进行光学加工,根据所述的片状激光钕玻璃尚未粘贴吸收玻璃板条的侧边的尺寸,配备尺寸相适应的吸收玻璃板条,对所述的吸收玻璃板条进行光学加工;

⑤对所述的片状激光钕玻璃和所述的吸收玻璃板条进行光学加工后的光学平面,实施酸性物质处理和偶联剂处理;

⑥用所述的有机粘接剂,将所述的吸收玻璃板条紧密地粘贴在所述的片状激光钕玻璃的相应的侧边上。

3.根据权利要求1或2所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的吸收玻璃为掺杂氧化铜的磷酸盐玻璃,其中掺杂氧化铜的重量百分比为0.1%~1%。

4.根据权利要求1或2所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的有机粘接剂在固化过程中无挥发性组分产生;所述的有机粘接剂在固化过程中体积收缩率低于7%。

5.根据权利要求2所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的偶联剂为硅烷偶联剂或钛酸酯偶联剂,所述的偶联剂处理是将所述的硅烷偶联剂或钛酸酯偶联剂溶解在稀乙酸中,将需要处理的光学面浸泡在所述的硅烷偶联剂的酸溶液中或钛酸酯偶联剂的酸溶液中进行处理。

6.根据权利要求2所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的酸性物质为乙酸,该乙酸的配制浓度0.2mol/L,浸泡处理所述的钕玻璃侧边和所述的吸收玻璃板条的光学平面。 

7.根据权利要求1或2所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的激光玻璃侧边和所述的吸收玻璃板条相互粘贴的光学平面的加工精度要求达到2级或2级以上光洁度,平整度达到或优于4λ。

8.根据权利要求1或2所述的抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法,其特征在于:所述的激光钕玻璃的侧边与该激光钕玻璃的通光面的垂直面具有1°~4°的倾角,且相对侧面的倾角相互平行。 

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