[发明专利]制备失效分析样品的方法有效
| 申请号： | 201010275159.6 | 申请日： | 2010-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN102384867A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 虞勤琴;史燕萍;朱敏;王玉科 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 失效 分析 样品 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备失效分析样品的方法，其特征在于包括：
提供样品，所述样品包括待分析结构，所述样品具有第一表面，所述第一表面暴露出所述待分析结构；
在所述第一表面上形成第一预定厚度的重金属层；
在形成第一预定厚度的重金属层后，将所述样品一分为二，选择其中之一作为待分析样品，所述待分析样品具有与所述第一表面相邻的第二表面，所述第二表面暴露出所述待分析结构；
在所述待分析样品的第二表面上形成第二预定厚度的重金属层；所述重金属层的材料选自金、铂或者铬。
2.如权利要求1所述的制备失效分析样品的方法，其特征在于，所述第一预定厚度为100埃±20埃。
3.如权利要求1所述的制备失效分析样品的方法，其特征在于，所述第二预定厚度为15埃±5埃。
4.如权利要求1所述的制备失效分析样品的方法，其特征在于，在所述第一表面上形成所述第一预定厚度的重金属层的方法为物理气相沉积。
5.如权利要求1所述的制备失效分析样品的方法，其特征在于，所述在所述待分析样品的第二表面上形成第二预定厚度的重金属层的方法为物理气相沉积。
6.如权利要求1所述的制备失效分析样品的方法，其特征在于，所述失效分析样品为扫描电镜失效分析样品。
7.如权利要求1所述的制备失效分析样品的方法，其特征在于，所述待分析结构为低介电常数介质层中的通孔。
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