[发明专利]照相模块及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种图像感测器技术的照相模块及其制造方法，尤其涉及一种使用光敏(photosensitive)型间隔层(spacer)。

背景技术

电荷耦合装置(charge-coupled device，CCD)图像感测装置及互补式金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor，CMOS)图像感测装置广泛运用于数字图像产品中。图像提取(image capture)技术也因具有照相模块的图像感测装置使用率增加而为消费者所熟知，例如数码相机、数字图像记录器、照相手机、监视器及其他具有照相功能的产品。

传统的照相模块包括一图像感测装置(即，图像捕捉或提取装置)及一或多个透镜组。透镜组设置于图像感测装置上且以堆叠方式排置，以将入射光线的图像映至图像感测装置上。玻璃间隔层通常通过使用粘着材料(即，紫外光(UV)固化型树脂或热固性树脂)而贴合于透镜组之间以及图像感测装置与相邻的透镜组之间，其中透镜组之间以及图像感测装置与相邻的透镜组之间会维持既定距离，以在透镜组至图像感测装置之间得到所要的焦点距离(focal distance)。

上述焦点距离会随着透镜组的设计而有所改变，包括透镜的数量及外型以及间隔层的厚度。相较于公知照相模块，高光学效能(例如，解析度)照相模块可能需要更复杂的透镜组设计，其包括缩减间隔层厚度。如此一来，高光学效能照相模块中所使用的玻璃间隔层及其所需的粘着材料的总厚度对于高光学效能照相模块的外观尺寸(dimension)限制及透镜组设计弹性来说扮演了一重要角色。然而，由于玻璃间隔层的厚度限制需大于300微米(μm)且所需的粘着材料厚度需与玻璃间隔层的厚度相加，因此难以提升光学效能及缩减照相模块的外观尺寸。

因此，有必要寻求一种新的照相模块，其不存在上述的问题。

发明内容

为了解决现有技术的问题，本发明一实施例提供一种照相模块，包括：一具有一微透镜阵列的图像感测装置、一透镜组以及一干膜式光致抗蚀剂间隔层。透镜组位于图像感测装置上方，而干膜式光致抗蚀剂间隔层夹设于图像感测装置与透镜组之间，其中干膜式光致抗蚀剂间隔层具有一开口位于微透镜阵列上方。

本发明另一实施例提供照相模块的制造方法。提供一透镜组，其具有一第一表面及与其相对的一第二表面。在透镜组的第一表面涂覆或层压贴合一干膜式光致抗蚀剂材料。通过光刻工艺对干膜式光致抗蚀剂材料进行图案化，以形成一间隔层，其内具有一开口。将间隔层贴合至一图像感测装置上，使透镜组位于图像感测装置上方。其中，图像感测装置包括一微透镜阵列位于开口下方。

本发明可简化照相模块的制作，可改善照相模块的光学效能，并可进一步降低照相模块的外观尺寸及制造成本。

附图说明

图1A至图1C示出根据本发明一实施例的透镜组结构制造方法剖面示意图。

图2A至图2D示出根据本发明另一实施例的透镜组结构制造方法剖面示意图。

图3示出根据本发明一实施例的堆叠的透镜组结构剖面示意图。

图4示出根据本发明另一实施例的堆叠的透镜组结构剖面示意图。

图5A至图5D示出根据本发明各个实施例的照相模块剖面示意图。

其中，附图标记说明如下：

10、20～透镜组；

10a、10b、20a、20b～表面；

100、200～透镜基底；

102、104、202、204～透镜元件；

106、208～干膜式光致抗蚀剂材料；

106a、208a～曝光区；

108、210～光掩模；

108a、210a～间隔层图案；

108b、210b～透光区；

110、212～曝光工艺；

112、206、214～干膜式光致抗蚀剂间隔层；

112a、206a、214a～开口；

300～图像感测装置；

302～微透镜阵列。

具体实施方式

以下说明本发明的实施例。此说明的目的在于提供本发明的总体概念而并非用以局限本发明的范围。本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定的范围为准。