[发明专利]光刻胶组合物

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，包含：

树脂，其含有衍生自具有酸敏基团的化合物的结构单元，且其不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液，

产酸剂，和

式(I′)表示的化合物：

其中R⁵¹、R⁵²、R⁵³和R⁵⁴各自独立地代表C1-C8烷基，A¹¹代表可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C3-C36二价饱和环烃基，或者可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C6-C20二价芳烃基。

2.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中所述式(I′)表示的化合物为式(I)表示的化合物：

其中R¹、R²、R³和R⁴各自独立地代表C1-C6烷基，A¹代表可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C3-C36二价饱和环烃基，或者可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C6-C20二价芳烃基。

3.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中所述树脂含有衍生自式(a2-0)表示的化合物的结构单元：

其中R⁸代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基，R⁹在各情形中独立地为卤素原子、羟基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C4酰基、C2-C4酰氧基、丙烯酰基或甲基丙烯酰基，ma代表0到4的整数。

4.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中所述具有酸敏基团的化合物为式(a1-1)表示的化合物：

其中R^a4代表氢原子或甲基，R^a6代表C1-C8脂肪族烃基或C3-C10饱和环烃基，L^a1代表＊-O-或＊-O-(CH₂)_k1-CO-O-，其中＊代表与-CO-的键合位置，k1代表1到7的整数，m1代表0到14的整数。

5.一种产生光刻胶图案的方法，包括以下步骤(1)到(5)：

(1)在衬底上施加根据权利要求1到4中任一项的光刻胶组合物的步骤，

(2)通过进行干燥形成光刻胶膜的步骤，

(3)使所述光刻胶膜曝光于辐射的步骤，

(4)烘焙经曝光的所述光刻胶膜的步骤，和

(5)用碱性显影剂使经烘焙的所述光刻胶膜显影从而形成光刻胶图案的步骤。

6.根据权利要求1到4中任一项的光刻胶组合物用于采用电子束光刻系统或远紫外光刻系统产生光刻胶图案的用途。

7.一种式(I-12)表示的化合物：

其中R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地代表C1-C6烷基。

8.一种光刻胶组合物，包含：

树脂，其含有衍生自具有酸敏基团的化合物的结构单元和衍生自式(a2-10)表示的化合物的结构单元：

其中R⁸⁰代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基，R⁹⁰在各情形中独立地为卤素原子、羟基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C4酰基、C2-C4酰氧基、丙烯酰基或甲基丙烯酰基，mb代表0到4的整数，A³¹代表二价连接基团，并且所述树脂不溶或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液，

产酸剂，和

式(I ″)表示的化合物：

其中R⁶¹、R⁶²、R⁶³和R⁶⁴各自独立地代表可具有1个或更多个取代基的C1-C20烷基，可具有1个或更多个取代基的C3-C30饱和环烃基，或者可具有1个或更多个取代基的C2-C20烯基，A²¹代表可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C1-C36烃基。