[发明专利]减压干燥装置和减压干燥方法有效

专利信息
申请号: 201010277683.7 申请日: 2010-09-07
公开(公告)号: CN102012643A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 池田文彦;三根阳介;大西辰己 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G03F7/38 分类号: G03F7/38
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 减压 干燥 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种减压干燥装置,该减压干燥装置是对涂敷有处理液的被处理基板进行上述处理液的减压干燥处理而形成涂敷膜的减压干燥装置,其特征在于,包括:

腔室,其用于收容被处理基板,并形成处理空间;

保持部,其被设于上述腔室内,用于保持上述被处理基板;

第一升降部件,其用于使上述保持部升降移动;

气流控制部,其被设于上述保持部的下方;

第二升降部件,其用于使上述气流控制部升降移动;

排气口,其形成于上述腔室内;

排气部件,其自上述排气口对腔室内的气氛进行排气。

2.根据权利要求1所述的减压干燥装置,其特征在于,

利用上述第一升降部件和上述第二升降部件来对上述腔室内的上述保持部和上述气流控制部进行配置,

在上述气流控制部接近被保持于上述保持部的被处理基板的状态下,利用上述排气部件的排气动作,在上述基板上表面形成朝向一个方向流动的气流的流路。

3.根据权利要求1所述的减压干燥装置,其特征在于,

上述排气口形成于上述被处理基板的侧方,

上述气流控制部隔着被保持于上述保持部的被处理基板至少被设于与上述排气口相反一侧的基板缘部的下方空间。

4.根据权利要求1所述的减压干燥装置,其特征在于,

在形成于上述被处理基板上表面的流路的左右两侧设有占据或遮挡上述基板的左右侧方的至少一部分空间的侧板构件。

5.根据权利要求3所述的减压干燥装置,其特征在于,该减压干燥装置包括:

供气口,其在上述腔室内隔着上述被处理基板形成在与上述排气口相反一侧的基板侧方;

供气部件,其自上述供气口向腔室内的处理空间供给非活烂气体。

6.根据权利要求5所述的减压干燥装置,其特征在于,

在形成于上述被处理基板上表面的流路的左右两侧,设有占据或遮挡上述基板左右侧方的至少一部分空间的侧板构件。

7.一种减压干燥装置,该减压干燥装置是用于在减压状态下使形成在被处理基板上的涂敷液的膜干燥的减压干燥装置,其包括:

腔室,其能够被减压,且能够放入、取出基板地收容该基板;

保持部,其用于在上述腔室内载置基板;

非活性气体供给部,其具有在水平的第一方向上设于上述腔室内的上述保持部的一侧的第一供气口,经由上述第一供气口向上述腔室内供给非活性气体;

排气部,其具有设于上述腔室内的除了上述第一供气口和上述保持部之间的第一区域之外的第二区域的排气口,经由上述排气口对上述腔室内进行真空排气;

气流控制部,其能够在第一模式和第二模式之间进行切换,该第一模式将非活性气体的气流路径限制为自上述第一供气口喷出的非活性气体中的大部分非活性气体通过上述保持部的上方并到达上述排气口,该第二模式实质上解除上述气流路径对非活性气体的限制。

8.根据权利要求7所述的减压干燥装置,其特征在于,上述气流控制部包括:

第一分隔板,其在与上述第一方向正交的水平的第二方向上位于上述腔室的侧壁的内侧,并配置在上述保持部的两侧;

第一升降机构,其用于使上述第一分隔板在上述第一模式用的第一高度位置和上述第二模式用的第二高度位置之间进行升降移动。

9.根据权利要求8所述的减压干燥装置,

上述第一分隔板处于上述第一高度位置时,该第一分隔板自上述腔室的底面沿铅垂方向突出至接触上述腔室的顶部的高度或该顶部附近的高度,上述第一分隔板处于上述第二高度位置时,该第一分隔板下降至其上端接近上述腔室的底面的高度或低于上述腔室的底面的高度。

10.根据权利要求8所述的减压干燥装置,其特征在于,

上述第一分隔板在上述第一方向上自上述第一供气口附近的位置延伸至上述保持部的相反一侧的位置。

11.根据权利要求8所述的减压干燥装置,其特征在于,上述气流控制部包括:

第二分隔板,其配置在上述保持部的至少与上述第一供气口相对的一侧的旁边;

第二升降机构,其用于使上述第二分隔板在上述第一模式用的第三高度位置和上述第二模式用的第四高度位置之间进行升降移动。

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