[发明专利]载置台结构和处理装置无效
申请号: | 201010277922.9 | 申请日: | 2010-09-03 |
公开(公告)号: | CN102013408A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 田中澄 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/687;H01L21/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 载置台 结构 处理 装置 | ||
1.一种载置台结构,其设置在能够排气的处理容器内,用于载置要处理的被处理体,该载置台结构的特征在于,包括:
由电介质形成的载置台,其载置并支承所述被处理体,并且设置有加热所述被处理体的加热机构;
多个保护支柱管,其从所述处理容器的底部侧立起设置,上端部与所述载置台的下表面接合,并且下端部开放;
加热器供电棒,其插通于所述保护支柱管内,并且上端部与所述加热机构连接;
吹扫气体流通用气密室,其设置在所述处理容器的底部侧,并且与所述保护支柱管内连通;和
惰性气体供给机构,其向所述吹扫气体流通用气密室内供给惰性气体。
2.如权利要求1所述的载置台结构,其特征在于:
所述惰性气体供给机构具有:
向所述吹扫气体流通用气密室导入惰性气体的惰性气体导入路;和
将导入所述吹扫气体流通用气密室的惰性气体排出的惰性气体排出路。
3.如权利要求2所述的载置台结构,其特征在于:
所述惰性气体排出路被抽真空。
4.如权利要求1至3中任一项所述的载置台结构,其特征在于:
所述吹扫气体流通用气密室与所述加热器供电棒对应地单独设置。
5.如权利要求4所述的载置台结构,其特征在于:
所述各吹扫气体流通用气密室是连通的。
6.如权利要求1至5中任一项所述的载置台结构,其特征在于:
所述加热机构具有加热器线,所述加热器线配置在设于所述载置台内的加热器收容空间内。
7.如权利要求6所述的载置台结构,其特征在于:
所述多个吹扫气体流通用气密室经由所述保护支柱管内及所述加热器收容空间内被连通。
8.如权利要求6或7所述的载置台结构,其特征在于:
所述加热器线被同心圆状地分割为多个区,并且按所述多个区而设置有所述惰性气体供给机构。
9.如权利要求6或8所述的载置台结构,其特征在于:
所述加热器线由从碳线、钨线、钼线构成的组中选择的一种材料形成。
10.一种对被处理体实施处理的处理装置,其特征在于,包括:
能够排气的处理容器;
用于载置所述被处理体的如权利要求1至9中任一项所述的载置台结构;和
向所述处理容器内供给气体的气体供给机构。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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