[发明专利]一种纳米多孔二氧化钛光催化材料的制备工艺有效
| 申请号： | 201010278588.9 | 申请日： | 2010-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101927157A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 杨建锋;王洪业;金海云;鲍崇高;乔冠军;王继平;王红洁 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06;B01J35/10 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 朱海临 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 多孔 氧化 光催化 材料 制备 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米多孔二氧化钛光催化材料的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)选择粒度D50在17-20nm范围的锐钛矿型纳米二氧化钛作为原料；
(2)原料经过造粒后在70-90MPa压力下模压成型制成坯体；
(3)将模压后的坯体放入空气中加热烧结，烧结温度为700-850℃，保温15-25分钟后随炉冷却，得到多孔二氧化钛块体；
(4)通过测试，烧结后的二氧化钛块体的气孔率为15-70％、抗弯强度为3.2-24.6MPa、混晶相中锐钛矿含量为79-100％。
2.如权利要求1所述的纳米多孔二氧化钛光催化材料的制备工艺，其特征在于，所述混晶相中锐钛矿含量通过以下公式计算：
IA：锐钛矿相2θ＝25.341的X-ray衍射峰的强度；
IB：金红石相2θ＝27.479的X-ray衍射峰的强度。
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