[发明专利]集成肖特基整流器的栅增强功率MOSFET器件无效
申请号: | 201010282581.4 | 申请日: | 2010-09-16 |
公开(公告)号: | CN102005478A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 王颖;胡海帆;杨晓冬;焦文利 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工程大学 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/47 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成 肖特基 整流器 增强 功率 mosfet 器件 | ||
【权利要求书】:
1.一种集成肖特基整流器的栅增强功率MOSFET器件,包括由漂移区(101)、漏区(102)、场氧化层(103)、栅电极(104)、沟道区(105)和源电极(106)构成的晶体管,其特征是:源电极(106)延伸到漂移(101)、并与漂移区(101)形成肖特基接触。
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