[发明专利]一种硅片的硼铝共吸杂方法

权利要求书

1.一种硅片的硼铝共吸杂方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)在铝浆中加入硼源，搅拌均匀，得到混合浆料；其中，硼元素在所述的混合浆料中的质量分数为0.01％-8％；

(2)将硅片用RCA液清洗，干燥；

(3)在步骤(2)得到的硅片的两面丝网印刷或旋涂上由步骤(1)制得的混合浆料，烘干后在硅片表面形成硼铝层；

(4)将步骤(3)得到的硅片在保护气体下在650～1000℃的退火温度下进行热处理，所述的保护气体为氮气、氩气、氧气或洁净干燥的空气；

(5)将经步骤(4)热处理后的硅片用体积比为1∶0.05～1∶2的硝酸溶液和氢氟酸溶液的混合溶液浸泡不超过3min，并用去离子水清洗多次，烘干；其中，硝酸的质量百分比浓度为40-65％，氢氟酸的质量百分比浓度为30-40％。

2.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的硼源为固态硼源或者液态硼源，所述的固态硼源为单质硼、三氧化二硼、硼酸或硼酸盐，所述的液态硼源为三氧化二硼有机溶液或含硼有机化合物。

3.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的固态硼源的颗粒大小为0.5～10μm。

4.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的固态硼源的颗粒大小为为1-5μm。

5.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的步骤(1)中，所述的硼元素在所述的混合浆料中的质量分数为1％-5％。

6.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的步骤(3)中，所述的铝硼层的厚度为1-50μm。

7.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的步骤(4)中，所述的热处理为常规热处理，在退火炉中进行，热处理时间为0.2-10h，硅片随炉自然冷却或快速冷却。

8.如权利要求1所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的步骤(4)中，所述的热处理为快速热处理，在快速热处理炉中进行，热处理时间为0.5-10min，硅片随炉自然冷却或快速冷却。

9.如权利要求7所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的热处理过程分为两步，第一步为在800-1000℃热处理0.5-2h，第二步为在700-850℃热处理0.5-2h。

10.如权利要求8所述的硼铝共吸杂方法，其特征在于，所述的热处理过程分为两步，第一步为800-1000℃热处理0.5-4min，第二步为700-850℃热处理0.5-4min。