[发明专利]一种合成2′-氟三联苯类液晶的方法无效

专利信息
申请号: 201010283050.7 申请日: 2010-09-16
公开(公告)号: CN102399117A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 韩耀华;丁兴立;钤秀丽;赵立峰;李红利;柳仁杰;梁志安;张建立 申请(专利权)人: 石家庄诚志永华显示材料有限公司
主分类号: C07B37/00 分类号: C07B37/00;C07C17/263;C07C25/18;C09K19/12;C09K19/30
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地址: 050091 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 合成 联苯 液晶 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于化工领域,涉及一种电子材料中液晶中间体及单体液晶的合成方法,特别是涉及一种利用suzuki偶联反应制备含2′-氟三联苯类液晶的方法。

背景技术

含氟三联苯类单体液晶一般都具有低的熔点,高的清亮点和较低的粘度,同时与其他单体液晶相容性好,所以在STN型液晶显示器,TFT型液晶显示器中有着大量的应用。现有技术中制备含氟三联苯类单体液晶的方法,包括专利号为US4696549公开的含氟三联苯类单体液晶的合成方法,是1987年,Merck公司方法,其缺点是反应步骤多、收率低、反应过程中需使用价格昂贵的催化剂PtO2。其反应过程有如下两条路线:

而专利号为CN1966608公开的含氟三联苯类单体液晶的合成方法,是用氯化物进行偶联反应,催化剂使用的是配体三叔丁基膦和冠醚等,其缺点是收率低、催化剂昂贵并具有高致癌性,且无法回收,不能进行工业化生产。

制备含氟三联苯类单体液晶因合成繁琐、造价高昂、收率低、对环境污染严重给该领域带来了很大的技术问题。

发明内容

本发明需要解决的技术问题是提供一种简单高效环保的制备含2′-氟三联苯类液晶的方法,以现有技术中存在的合成繁琐、收率低、对环境危害严重、使用的催化剂昂贵或对人体有危害的问题,它能够降低生产成本,减少对环境的污染,能够满足工业上合成含三联苯的单体液晶。

为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:

一种合成2′-氟三联苯类液晶的方法,是原材料在有机溶剂里加入催化剂,进行suzuki偶联反应的方法实现的,以4-溴-3-氟碘苯、两种苯硼酸为原材料,在碱性的有机溶剂环境中在催化剂的作用下,在70~100℃的反应温度下分别经过4-10小时和10-20小时的2次suzuki偶联反应,得到2′-氟三联苯类液晶,本合成路线如下:

步骤一、在第一有机溶剂里用4-溴-3-氟碘苯与第一苯硼酸和碱在第一催化剂的作用下加热发生suzuki偶联反应,生成(I):

步骤二、在第二有机溶剂里将步骤一得到的中间产物(I)与第二苯硼酸和碱在第二催化剂的作用下加热发生suzuki偶联反应,生成目标产物(II)2′-氟三联苯类单体液晶:

上述两步骤描述的化学式中代表环己基、苯基、嘧啶、吡啶、2,6二氧六环的其中一种,R1、R2分别为C1~C8的烷基或烷氧基、链烯基、F、Cl的其中一种,X1、X2、X3、X4分别为H、F、Cl的其中一种,m、n=0或1。

suzuki交叉偶联反应中所选用的催化剂为四三苯基膦钯,Pd/C、PdCl2等催化剂。碱为碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钾、磷酸钾等,优选碳酸钾,碳酸钾与原料苯硼酸的摩尔比2∶1。

步骤一中优选的催化剂是四(三苯基膦)钯,反应中原料与催化剂的摩尔比100-300∶1;反应溶剂为甲苯、四氢呋喃、乙醇等有机溶剂与水的混合物,其中优选甲苯或/和乙醇与水的混合溶剂,反应温度70~100℃,优选70~80℃,反应4-10小时,优选6小时。

步骤二中优化的催化剂为5%的Pd/C,反应中原料与催化剂的摩尔比200-500∶1;反应溶剂为四氢呋喃、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺其中一种或者两种以上物质与水的混合物,,其中优选四氢呋喃与水的混合溶剂,反应温度70~100℃,优选70~80℃,反应10~20小时,优选15小时。

由于采用了上述技术方案,本发明所取得的技术进步是:

本发明的含2′-氟三联苯的合成方法仅需两次交叉偶联反应,反应路线短,催化剂价格低廉,对人体无危害,且可以多次利用,收率和纯度都很高。本发明工艺环保简单、成本低、产品易于提纯、实用性强。本发明的催化剂不但没有用到昂贵的催化剂PtO2、PdCl2及配体三叔丁基膦以及致癌性的冠醚,而且5%Pd/C可重复使用5次,大大节约了成本,减少了污染。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明做进一步详细说明:

一种含2′-氟三联苯类液晶的合成方法,以4-溴-3-氟碘苯、两种苯硼酸为原材料,在碱环境中在催化剂的作用下,在有机溶剂里,在70~100℃的反应温度下分别经过4-10小时和10-20小时的2次suzuki交叉偶联反应,得到2′-氟三联苯类液晶,本合成路线如下:

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