[发明专利]有机EL用掩模清洗方法、有机EL用掩模清洗装置及有机EL显示器的制造装置

权利要求书

1.一种有机EL用掩模清洗方法，其在附着了有机材料的有机EL用掩模的表面扫描激光而除去所述有机材料，其特征在于，

照射如下的激光：在透过所述有机材料地使所述激光照射到所述有机EL用掩模时，将所述有机材料维持在固态，且所述有机EL用掩模在照射后不变形的激光。

2.如权利要求1所述的有机EL用掩模清洗方法，其特征在于，

通过照射所述激光，使所述有机材料和所述有机EL用掩模具有由温度差引起的热膨胀差，由此，对层间作用剥离力，进行所述有机材料的除去。

3.如权利要求2所述的有机EL用掩模清洗方法，其特征在于，

根据所述有机材料和所述有机EL用掩模，所述激光的波长λ从“400nm≤λ≤1200nm”中选择将所述有机材料维持在固态、且所述有机EL用掩模在热膨胀后能够复原的波长。

4.如权利要求3所述的有机EL用掩模清洗方法，其特征在于，将所述激光设定为脉冲激光。

5.如权利要求4所述的有机EL用掩模清洗方法，其特征在于，

控制所述脉冲激光的一次照射时间，以将所述有机材料维持在固态、且所述有机EL用掩模在热膨胀后能够复原。

6.如权利要求1～5中任一项所述的有机EL用掩模清洗方法，其特征在于，

控制了向所述有机EL用掩模照射所述激光时形成的光点的光点直径。

7.一种有机EL用掩模清洗装置，其在附着了有机材料的有机EL用掩模的表面扫描激光而除去所述有机材料，其特征在于，

具备激光光源，该激光光源振荡如下的激光：在透过所述有机材料地使所述激光照射到所述有机EL用掩模时，将所述有机材料维持在固态，且所述有机EL用掩模在照射后不变形的激光。

8.如权利要求7所述的有机EL用掩模清洗装置，其特征在于，

所述激光光源振荡激光，所述激光通过使所述有机材料和所述有机EL用掩模具有由温度差引起的热膨胀差，对层间作用剥离力，进行所述有机材料的除去。

9.如权利要求8所述的有机EL用掩模清洗装置，其特征在于，所述激光光源，根据所述有机材料和所述有机EL用掩模，振荡如下的波长：所述激光的波长λ从“400nm≤λ≤1200nm”中选出的、将所述有机材料维持在固态，且所述有机EL用掩模在热膨胀后能够复原的波长。

10.如权利要求9所述的有机EL用掩模清洗装置，其特征在于，

具备振荡的波长各不相同的多个所述激光光源，

根据所述有机材料和所述有机EL用掩模，从所述激光光源中使用具有将所述有机材料维持在固态、且所述有机EL用掩模在热膨胀后能够复原的波长的激光光源，振荡所述激光。

11.如权利要求9所述的有机EL用掩模清洗装置，其特征在于，

所述激光光源振荡脉冲激光。

12.如权利要求11所述的有机EL用掩模清洗装置，其特征在于，

所述激光光源控制所述脉冲激光的一次照射时间，以将所述有机材料维持在固态，且所述有机EL用掩模在热膨胀后能够复原。

13.如权利要求12所述的有机EL用掩模清洗装置，其特征在于，具备：

使所述激光聚光的聚光单元、

使所述激光的焦点位置变化的焦点位置变化单元。

14.一种有机EL显示器的制造装置，其特征在于，具备权利要求7～13中任一项所述的有机EL用掩模清洗装置。