[发明专利]制造化学镀覆的材料的方法有效

专利信息
申请号: 201010285441.2 申请日: 2010-09-15
公开(公告)号: CN102021540A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 长村学;下俊久;熊谷京子;加藤伊三美;别所毅;前田武昭 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社;奥野制药工业股份有限公司
主分类号: C23C18/20 分类号: C23C18/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;王春伟
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 化学 镀覆 材料 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造化学镀覆的材料的方法,所述材料具有待通过化学镀进行镀覆的表面,所述方法的特征在于包括:

臭氧处理步骤,其中使由树脂制成的材料体与含有臭氧的溶液接触以在所述材料体的表面中形成改性层;和

表面层除去步骤,其中在所述臭氧处理步骤之后,除去所述改性层的表面层。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其中在所述表面层除去步骤中用紫外线照射所述材料体的所述表面以除去所述改性层的所述表面层。

3.根据权利要求2所述的制造方法,其中所述紫外线的波长为350nm或更短。

4.根据权利要求3所述的制造方法,其中所述紫外线的波长为300nm或更短。

5.根据权利要求4所述的制造方法,其中所述紫外线的波长为150-260nm或更短。

6.根据权利要求2-5中任一项所述的制造方法,其中所述紫外线的照射量为8-22W/cm2

7.根据权利要求2-5中任一项所述的制造方法,其中所述紫外线的照射时间为1-40分钟。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的制造方法,其中所述表面层除去步骤是将所述改性层的表面除去不小于0.1T并且不大于0.5T的厚度的步骤,其中T代表所述改性层的厚度。

9.根据权利要求8所述的制造方法,其中在所述表面层除去步骤中,将所述改性层的表面除去不小于0.2T并且不大于0.4T的厚度,其中T代表所述改性层的厚度。

10.根据权利要求9所述的制造方法,其中在所述表面层除去步骤中,将所述改性层的表面除去不小于0.25T并且不大于0.35T的厚度,其中T代表所述改性层的厚度。

11.根据权利要求8所述的制造方法,其中在所述臭氧处理步骤中形成的所述改性层的厚度为30-200nm。

12.根据权利要求11所述的制造方法,其中在所述臭氧处理步骤中形成的所述改性层的厚度为60-200nm。

13.根据权利要求12所述的制造方法,其中在所述臭氧处理步骤中形成的所述改性层的厚度为90-150nm。

14.根据权利要求1-5中任一项所述的制造方法,其中所述表面层除去步骤在氧化性气氛中实施。

15.根据权利要求1-5中任一项所述的制造方法,其中在所述表面层除去步骤之后,在对所述材料体进行化学镀覆之前用碱性组分和表面活性剂中的至少一种处理所述材料体的所述表面。

16.根据权利要求1-5中任一项所述的制造方法,其中在所述臭氧处理步骤之后干燥所述材料体。

17.根据权利要求1-5中任一项所述的制造方法,其中在所述表面层除去步骤之后将催化剂吸附到所述材料体。

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