[发明专利]一种线路板镀铜填孔工艺有效

专利信息
申请号: 201010286567.1 申请日: 2010-09-17
公开(公告)号: CN101951735A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 韦昊;张庭主 申请(专利权)人: 深圳市集锦线路板科技有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 代理人: 胡吉科
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 线路板 镀铜 工艺
【权利要求书】:

1.一种线路板镀铜填孔工艺,包括步骤:

A)对线路板基板进行开料、内层棕化及压板处理后,对其进行钻孔;

B)将钻孔后的基板进行沉铜板镀;

C)对沉铜板镀后的基板通过镀孔菲林进行图形转移;

D)将图形转移后的基板进行镀铜填孔,并对镀铜填孔后的线路板进行表面打磨;

E)通过线路菲林进行线路图形转移,并检查外层的开短路等缺陷并作出修正;

F)阻焊:丝印阻焊及文字,所述阻焊为绿油,检测阻焊厚度线角最小8um,丝印文字;

G)全板沉镍金,锣外型,外型公差+/-0.10mm;

H)测试检查成品板的电气性能及外观,制得成品。

2.如权利要求1所述的线路板镀铜填孔工艺,其特征是:步骤A)所述的钻孔为将线路板基板的所有孔一次性钻出,并对钻出的孔进行孔金属化。

3.如权利要求1或者2所述的线路板镀铜填孔工艺,其特征是:步骤B)所述的图形转移为利用镀孔菲林对位曝光,镀孔菲林只对需镀铜填孔的孔径进行开窗,开窗大小较钻孔孔径单边大2-4miL。

4.如权利要求1或者2所述的线路板镀铜填孔工艺,其特征是:步骤C)所述的镀铜填孔为利用电镀的方式将开窗的孔进行填铜,电镀时采用低电流密度电镀,所述的低电流密度为10-14ASF,镀孔总电流设定值为镀孔电流计算值+0.4A;采用的镀液中的铜浓度为50-60g/L。

5.如权利要求4所述的线路板镀铜填孔工艺,其特征是:步骤C)所述的表面打磨的表面铜厚度为研磨前的表面铜厚需控制在25~35um,研磨后表面铜的研磨量控制在8um以内。

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