[发明专利]无机质子导体及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010286609.1 申请日: 2010-09-16
公开(公告)号: CN102040209A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 金泰映;许弼源;姜尚均 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C01B25/42 分类号: C01B25/42
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金拟粲
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 无机 质子 导体 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.由式1表示的无机质子导体:

<式1>

M1-aNaP2O7,其中,

M包括四价金属元素或四价类金属元素,

N包括碱金属,和

a为0.01~0.7的数。

2.权利要求1的无机质子导体,其中M包括选自以下的至少一种:锡(Sn)、锆(Zr)、钨(W)、硅(Si)、钼(Mo)、和钛(Ti)。

3.权利要求1的无机质子导体,其中N包括选自以下的至少一种:锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、和铯(Cs)。

4.权利要求2的无机质子导体,其中N包括选自以下的至少一种:锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、和铯(Cs)。

5.权利要求1或4的无机质子导体,其中M包括Sn。

6.权利要求1的无机质子导体,其中在式1中,a为0.05~0.5的数。

7.权利要求1的无机质子导体,其中所述质子导体为选自以下的一种:Sn0.7Li0.3P2O7、Sn0.95Li0.05P2O7、Sn0.9Li0.1P2O7、Sn0.8Li0.2P2O7、Sn0.6Li0.4P2O7、Sn0.5Li0.5P2O7、Sn0.7Na0.3P2O7、Sn0.7K0.3P2O7、Sn0.7Cs0.3P2O7、Zr0.9Li0.1P2O7、Ti0.9Li0.1P2O7、Si0.9Li0.1P2O7、Mo0.9Li0.1P2O7和W0.9Li0.1P2O7

8.由式1表示的无机质子导体的制备方法,所述方法包括:

向四价金属元素或四价类金属元素M前体、碱金属N前体和磷酸的混合物中添加溶剂以制备组合物;

搅拌所述组合物;和

热处理该搅拌的组合物以形成式1的无机质子导体,

<式1>

M1-aNaP2O7,其中,

M包括四价金属元素或四价类金属元素,

N包括碱金属,和

a为0.01~0.7的数。

9.权利要求8的方法,其中所述搅拌在200℃~300℃的温度下进行。

10.权利要求8的方法,其中所述热处理在300℃~1200℃的温度下进行。

11.权利要求9的方法,其中所述热处理在300℃~1200℃的温度下进行。

12.权利要求8或11的方法,其中所述M前体为选自以下的至少一种:氧化锡、氯化锡、氢氧化锡、氧化钨、氯化钨、氧化钼、氯化钼、氧化锆、氯化锆、氢氧化锆、氧化钛和氯化钛。

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