[发明专利]清洗方法、清洗系统以及制造微结构的方法

权利要求书

1.一种清洗方法，其包括：

通过电解稀硫酸溶液制备包括氧化物质的氧化溶液，和

向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。

2.根据权利要求1所述的方法，其中重复地进行向待清洗物体的表面供给高浓缩无机酸溶液和向待清洗物体的表面供给氧化溶液。

3.根据权利要求1所述的方法，其中稀硫酸溶液的硫酸浓度不小于30重量％，并且不超过70重量％。

4.根据权利要求1所述的方法，其中高浓缩无机酸溶液为具有不小于90重量％硫酸浓度的浓硫酸溶液。

5.根据权利要求1的所述的方法，其中氧化物质包括选自过氧一硫酸和过氧二硫酸中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的方法，其中选自氧化溶液的温度和高浓缩无机酸溶液的温度中的至少之一不小于100℃，并且不超过110℃。

7.根据权利要求1所述的方法，其中利用当高浓缩无机酸溶液和氧化溶液在待清洗物体表面上混合时产生的反应热来进行溶液温度的调节。

8.根据权利要求1所述的方法，其中在供给高浓缩无机酸溶液和供给氧化溶液之间，不进行向待清洗物体的表面提供漂洗液体。

9.根据权利要求1所述的方法，其中抗蚀剂在待清洗物体的表面上形成，所述抗蚀剂的表面具有改变层。

10.一种清洗系统，其包括：

硫酸电解单元，该硫酸电解单元包括阳极、阴极、在阳极和阴极之间提供的隔离膜、在阳极和隔离膜之间提供的阳极室、以及在阴极和隔离膜之间提供的阴极室，硫酸电解单元通过电解稀硫酸溶液在阳极室内制备氧化物质；

向阳极室和阴极室供给稀硫酸溶液的稀硫酸供给单元；

对待清洗物体进行清洗处理的清洗处理单元；

向清洗处理单元供给高浓缩无机酸溶液的无机酸供给单元；和

向清洗处理单元供给包括氧化物质的氧化溶液的氧化溶液供给单元；

通过无机酸供给单元向清洗处理单元供给高浓缩无机酸与通过氧化溶液供给单元供给氧化溶液单独地、按顺序地或基本上同时进行。

11.根据权利要求10所述的系统，其进一步地包括溶液循环单元，该溶液循环单元回收选自从清洗处理单元中排放出的高浓缩无机酸溶液和氧化溶液中的至少一种物质，并且再补给该至少一种物质到清洗处理单元。

12.根据权利要求11所述的系统，其中溶液循环单元回收选自从清洗处理单元中排放出的高浓缩无机酸溶液和氧化溶液中的至少一种物质，并经由硫酸电解单元再补给该至少一种物质到清洗处理单元。

13.根据权利要求12所述的系统，其中硫酸电解单元通过电解稀硫酸溶液以及选自高浓缩无机酸溶液和氧化溶液中的至少一种物质在阳极室中制备氧化物质，稀硫酸溶液由稀硫酸供给单元供给，所述至少一种物质由溶液循环单元供给。

14.根据权利要求10所述的系统，其中稀硫酸溶液的硫酸浓度不小于30重量％，并且不超过70重量％。

15.根据权利要求10所述的系统，其中高浓缩无机酸溶液为具有不小于90重量％硫酸浓度的浓硫酸溶液。

16.根据权利要求10所述的系统，其中无机酸供给单元包括加热器，该加热器执行对无机酸溶液的温度控制。

17.根据权利要求11所述的系统，其中溶液循环单元包括加热器，该加热器执行对氧化溶液的温度控制。

18.根据权利要求11所述的系统，其中在选自供给氧化溶液到清洗处理单元的管系和供给高浓缩无机酸溶液到清洗处理单元的管系中的至少之一中提供加热器。

19.根据权利要求11所述的系统，其中选自阳极和阴极中的至少之一包括在导电的基底元件的表面上形成的导电金刚石膜。

20.一种制造微结构的方法，其包括通过根据权利要求1的清洗方法清洗待清洗物体，以及形成微结构。