[发明专利]液晶显示装置、液晶显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201010288544.4 申请日: 2010-09-15
公开(公告)号: CN102023414A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 都甲康夫;高桥泰树 申请(专利权)人: 斯坦雷电气株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1333
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟;朱丽娟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及液晶显示装置中的液晶分子的取向控制技术。

背景技术

作为制造液晶显示装置的要素技术之一有取向控制技术。以往,关于实现较高的预倾角(Pretilt Angle)的技术,例如公知有日本特开平6-95115号公报(专利文献1)公开的技术。但是,在使用专利文献1公开的技术的情况下,虽然能够获得预期的0°~90°的预倾角,但在以下方面还存在有待改进的余地,即,由于使用各向异性干式蚀刻等,制造工艺复杂,加工费用高,同时由于需要许多材料(微粒、树脂等),所以材料费用高。另外,根据专利文献1的记载,利用形成为尖锐形状的突起体或针状体的形状作用来进行取向控制,而突起体等是比较细微的部件,认为很难高精度地控制这些部件的形状。因此,认为根据突起体等的形状效果,很难在较广的范围内控制预倾角。

【先行技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开平6-95115号公报

发明内容

本发明的具体方式的目的之一在于,提供能够在较广范围内设定液晶分子的预倾角的新技术。

本发明的一个方式的液晶显示装置包括:(a)将彼此的一面对置配置的第1基板及第2基板;(b)设于所述第1基板的所述一面侧的第1取向限制层;(c)设于所述第2基板的所述一面侧的第2取向限制层;(d)以及设于所述第1基板和所述第2基板相互之间的液晶层。所述第1取向限制层或所述第2取向限制层的至少一方具有:(e)取向膜;(f)设于所述取向膜上并与所述液晶层接触的液晶性聚合物膜。

在上述的液晶显示装置中,能够利用受到下侧取向膜的作用而均匀取向的液晶性聚合物层,对与该液晶性聚合物层接触设置的液晶层的液晶分子赋予较高的预倾角。取向膜和液晶性聚合物层都能够容易利用比较简单的装置及工艺制造,而且通过改变此时的材料和形成条件,能够在较广范围内控制预倾角,这已得到本申请发明人确认。

优选所述取向膜是水平取向膜。

优选所述液晶性聚合物膜是通过光照射使光固化型液晶性单体膜聚合物化的膜。

本发明的一个方式的液晶显示装置的制造方法包括:(a)第1步骤,在第1基板的一面形成第1取向限制层;(b)第2步骤,将所述第1基板和第2基板配置成使彼此的一面对置;(c)第3步骤,在所述第1基板和所述第2基板之间形成液晶层。所述第1步骤包括:(d)在所述第1基板的一面上形成取向膜的步骤;(e)在所述取向膜上形成光固化型液晶性单体膜的步骤;(f)通过对所述光固化型液晶性单体膜进行光照射来形成液晶性聚合物膜的步骤。

根据这种制造方法,能够在较广范围内设定液晶层中的液晶分子的预倾角,并制造液晶显示装置。

附图说明

图1是示意地表示一个实施方式的液晶显示元件中的取向限制层的原理及制造方法的图(剖面图)。

图2是示意地表示具有实施方式涉及的取向限制层的液晶显示装置的结构示例的剖面图。

图3是详细说明利用构成取向限制层的液晶性聚合物实现的光学补偿功能的图。

图4是表示涂敷液晶性单体膜后的放置时间与预倾角的关系的图。

图5是表示光照射量与预倾角的关系的图。

标号说明

10、10a、10b基板;12、12a、12b取向膜;13光固化型液晶性聚合物膜;14液晶性聚合物膜;16液晶分子;17界面;18液晶层。

具体实施方式

下面,参照附图说明本发明的实施方式。

图1是示意地表示适用了本发明的一个实施方式的液晶显示元件中的取向限制层的原理及制造方法的图(剖面图)。另外,为了便于说明,省略表示剖面的阴影的描画。本实施方式的取向限制层是指能够对与其接触设置的液晶层内的液晶分子取向施加限制力的功能层,基本构成包括取向膜和形成于该取向膜上的液晶性聚合物膜。下面,进行更加详细的说明。

首先,在玻璃基板等基板10的一面上形成有由聚酰亚胺等有机高分子膜构成的取向膜12(图1(A))。例如,利用旋涂等方法在基板10的一面上涂敷液状的取向膜材料,然后实施适当的热处理,由此得到取向膜12。在本实施方式中,取向膜12采用将液晶分子取向限制为水平取向,而且具有提供较低的预倾角(例如几度)的能力的膜(水平取向膜)。另外,朝图中箭头指示的方向实施摩擦(ヘラビング)处理。另外,也可以实施能够取代摩擦处理的其他表面处理(例如光取向处理)。另外,取向膜12也可以采用利用所谓倾斜蒸镀法形成的氧化硅膜等无机膜。并且,还可以在基板10的一面上设置采用透明导电膜等的电极(省略图示)。

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