[发明专利]输送机构及具有该输送机构的镀膜设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种输送机构及具有该输送机构的镀膜设备，尤其涉及一种用于连续式镀膜设备的，可以使待镀膜产品通过公、自转改变镀膜角度的输送机构及具有该输送机构的镀膜设备。

背景技术

随着各种电子产品的普及应用，消费者的要求越来越高，除要求满足使用功能外，消费者对电子产品的外观、触摸质感等也有了新的要求。比如，要求产品外壳具有绚丽的色彩、金属质感、耐磨损等。利用真空镀膜技术对产品外壳进行镀膜加工，可使电子产品获得具有各种色彩的、高金属质感的多层膜外壳，满足目前消费者的需求。

连续式镀膜设备在真空镀膜领域的应用较为广泛，其相对于传统炉式单腔镀膜设备，可以实现从进料至镀膜，再到出料整个完整的工序的自动化操作，有利于大幅提高产能，降低生产成本，且可大幅降低设备成本及占用厂房空间的要求。

连续式镀膜设备一般采用直列式(In-line)结构，具有多个依次连接的腔体，如进料腔体、镀膜腔体及出料腔体。待镀膜产品通过输送机构在不同的腔体之间实现输送。但是，利用传统连续式镀膜设备进行镀膜加工时，通常不易控制镀膜制程中产品不同部位镀膜的均匀性，特别是对于几何形状较为复杂的待镀膜产品，易产生产品某些部位镀膜不充分、不同部分之间膜层不均匀的现象，影响镀膜元件的镀膜质量，造成产品不良率的增加。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种易于实现的、可有效解决现有技术中存在的问题的输送机构及具有该输送机构的镀膜设备。

一种用于连续式镀膜设备的输送机构，其包括一个移动装置，及一个挂件装置。所述移动装置具有一个基体，至少两个设置于所述基体的两侧且可相对于所述基体转动的滚轮，连接于所述至少两个轮滚之间的连接轴，及一个固定设置于所述连接轴上的第一锥齿轮。所述挂件装置具有一个设置于所述基体上的公转架，一个固定设置于所述公转架上的第二锥齿轮，所述第二锥齿轮的旋转中心轴垂直于所述第一锥齿轮的旋转中心轴，及至少一个设置于所述公转架上用于放置待镀膜产品的挂件杆。所述公转架具有一个与所述挂件杆平行设置的转动轴，所述至少一个挂件杆与所述转动轴相互连接实现机械传动，所述至少一个挂件杆随所述转动轴的转动而自转。所述公转架与所述基体通过所述第二锥齿轮与所述第一锥齿轮的相互啮合实现机械传动。

一种镀膜设备，其包括至少一个腔体，及至少一个设置于所述腔体内的输送机构。所述输送机构包括一个移动装置，及一个挂件装置。所述移动装置具有一个基体，至少两个设置于所述基体的两侧且可相对于所述基体转动的滚轮，连接于所述至少两个轮滚之间的连接轴，及一个固定设置于所述连接轴上的第一锥齿轮。所述挂件装置具有一个设置于所述基体上的公转架，一个固定设置于所述公转架上的第二锥齿轮，所述第二锥齿轮的旋转中心轴垂直于所述第一锥齿轮的旋转中心轴，及至少一个设置于所述公转架上用于放置待镀膜产品的挂件杆。所述公转架具有一个与所述挂件杆平行设置的转动轴，所述至少一个挂件杆与所述转动轴相互连接实现机械传动，所述至少一个挂件杆随所述转动轴的转动而自转。所述公转架与所述基体通过所述第二锥齿轮与所述第一锥齿轮的相互啮合实现机械传动。

相对于现有技术，本发明的输送机构具有如下优点：其一，利用挂件装置中公转架带动挂件杆的公转及挂件杆的自转，可以调节放置于所述挂件装置上的待镀膜产品的镀膜角度，控制镀膜制程中待镀膜产品不同部位之间镀膜的均匀性，保证几何形状较为复杂的产品的特殊部位的镀膜充分性，获得镀膜质量较佳的产品，增加产品的良率。其二，利用移动装置，可以使放置于所述挂件装置上的待镀膜产品在对应不同加工工序的腔体之间移动，以适应不同的加工需要，保证整个镀膜加工的连续性。其三，利用所述挂件装置的转动与所述移动装置的移动的匹配关系，可以设计不同待镀膜产品的镀膜制程，满足不同镀膜加工的要求。其四，具有所述输送机构的镀膜设备无需额外配置复杂的机构，易于实现，便于控制操作。

附图说明

图1是本发明第一实施例提供的输送机构的示意图。

图2是图1所示的输送机构的工作原理图。

图3是图1所示的输送机构的使用状态示意图。

图4是本发明第二实施例提供的输送机构的工作原理图。

图5是本发明第三实施例提供的具有图1所示输送机构的镀膜设备的示意图。

主要元件符号说明

移动装置                    10

基体                        11

收容空间                    12