[发明专利]阻气涂层和阻气膜

权利要求书

1.一种基于氮化硅的阻气涂层，其具有：

1至1.4的N/Si组成比，和

10至30原子％的氢含量，其中：

在所述涂层的傅里叶变换红外吸收光谱中，由Si-H伸缩振动引起的吸收峰出现在2170至2200cm^-1的范围内的波数处，并且由Si-H伸缩振动引起的吸收峰强度I_(Si-H)与在840cm^-1附近由Si-N伸缩振动引起的吸收峰强度I_(Si-N)之间的比率[I_(Si-H)/I_(Si-N)]为0.03至0.15。

2.根据权利要求1所述的阻气涂层，其中在傅里叶变换红外吸收光谱中的3350cm^-1附近由N-H伸缩振动引起的吸收峰强度I_(N-H)与所述峰强度I_(Si-N)之间的比率[I_(N-H)/I_(Si-N)]为0.03至0.07。

3.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，所述阻气涂层的密度为2.1至2.7g/cm³。

4.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，其中在傅里叶变换红外吸收光谱中的3350cm^-1附近由N-H伸缩振动引起的吸收峰强度I_(N-H)与所述峰强度I_(Si-H)之间的比率[I_(N-H)/I_(Si-H)]为0.5至1.5。

5.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，其中在傅里叶变换红外吸收光谱中，在840cm^-1附近由Si-N伸缩振动引起的吸收峰出现在820至860cm^-1的范围内的波数处。

6.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，其中平均Si-N键长为1.69至

7.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，所述阻气涂层具有不大于15原子％的氧含量。

8.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，所述阻气涂层具有10至150nm的厚度。

9.根据权利要求1或2所述的阻气涂层，所述阻气涂层作为单层具有不小于95％的可见光透射率。

10.一种阻气膜，其包括：

玻璃化转变温度为130℃以下的树脂膜；和

沉积在所述树脂膜上的根据权利要求1或2所述的阻气涂层。

11.一种阻气膜，其包括：

基底膜；和

沉积在所述基底膜上的根据权利要求1或2所述的阻气涂层，

其中所述阻气膜具有允许至多1×10^-5[g/(m²·天)]的气体渗透的阻气性能和不小于85％的可见光透射率，并且

其中即使在将所述阻气膜在温度为60℃且相对湿度为90％的环境中留置1000小时以后，也维持所述阻气性能和所述可见光透射率，并且即使在将所述阻气膜卷绕成直径为10mm的卷材，然后展开1000次以后，同样也维持所述阻气性能和所述可见光透射率。

12.一种阻气膜，其包括：

基底膜；和

沉积在所述基底膜上的根据权利要求1或2所述的阻气涂层，

其中所述阻气膜具有允许至多3×10^-3[g/(m²·天)]的气体渗透的阻气性能和不小于85％的可见光透射率，并且

其中即使在将所述阻气膜在温度为85℃且相对湿度为90％的环境中留置1000小时以后，也维持所述阻气性能和所述可见光透射率，并且即使在将所述阻气膜卷绕成直径为10mm的卷材，然后展开1000次以后，同样也维持所述阻气性能和所述可见光透射率。