[发明专利]一种无铅压电陶瓷薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010290334.9 申请日: 2010-09-21
公开(公告)号: CN101962293A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 朱孔军;裘进浩;季宏丽 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C04B35/495 分类号: C04B35/495;C04B35/624
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 唐小红
地址: 210016*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 压电 陶瓷 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种无铅压电陶瓷薄膜的制备方法,其特征在于,包括下列步骤:

步骤一:称取Nb2O5,沸水浴条件下溶解于氢氟酸中,得到Nb2F5溶液;

步骤二:向步骤一得到的Nb2F5溶液中按n(Nb2O5)∶n(草酸铵)=1∶6加入草酸铵溶液并充分混合;

步骤四:向步骤二得到的混合液中逐滴加入氨水,产生白色Nb(OH)5沉淀;

步骤五:将步骤四所得的Nb(OH)5沉淀在60~80℃陈化,过滤并洗涤后溶解于柠檬酸溶液中,得到Nb-柠檬酸溶液;

步骤六:称取步骤五得到的Nb-柠檬酸溶液,按照摩尔比n(K+)∶n(Na+)∶n(Nb5+)=1∶1∶2,加入K2CO3、Na2CO3粉末,待K2CO3、Na2CO3全部溶解后得到混合液;再向所得的混合液中加入氨水,调节其pH值接近7.5后再加入乙二醇,并不断搅拌,得到铌酸钾钠前驱体溶胶;

步骤七:将步骤六所得的溶胶涂覆在硅基片上,并进行烘干;

步骤八:将步骤七经涂覆溶胶的硅基片置于150~300℃温度下水热处理1~36小时。

2.如权利要求1所述的无铅压电陶瓷薄膜的制备方法,其特征在于,步骤七中,先将步骤六所得的溶胶在60~80℃温度下蒸发部分水分,使其具有粘度,再进行涂覆。

3.如权利要求1或2所述的无铅压电陶瓷薄膜的制备方法,其特征在于,步骤七中,溶胶涂覆在硅基片上并烘干后,在马弗炉中以2~5℃/min的升温速率升温至300~400℃,并保温30min,再重复涂覆烘干升温并保温的过程至少6次。

4.一种无铅压电陶瓷薄膜的制备方法,其特征在于,包括下列步骤:

步骤一:称取Nb2O5,沸水浴条件下溶解于氢氟酸中,得到Nb2F5溶液;

步骤二:向步骤一得到的Nb2F5溶液中按n(Nb2O5)∶n(草酸铵)=1∶6加入草酸铵溶液并充分混合;

步骤四:向步骤二得到的混合液中逐滴加入氨水,产生白色Nb(OII)5沉淀;

步骤五:将步骤四所得的Nb(OH)5沉淀在60~80℃陈化,过滤并洗涤后溶解于柠檬酸溶液中,得到Nb-柠檬酸溶液;

步骤六:称取步骤五得到的Nb-柠檬酸溶液,按照摩尔比n(K+)∶n(Na+)∶n(Nb5+)=1∶1∶2,加入K2CO3、Na2CO3粉末,待K2CO3、Na2CO3全部溶解后得到混合液;再向所得的混合液中加入氨水,调节其pH值接近7.5后再加入乙二醇,并不断搅拌,得到铌酸钾钠前驱体溶胶;

步骤七:将步骤六所得的溶胶涂覆在硅基片上,再在150~300℃下进行预热处理1~16小时;

步骤八:将步骤七经预热处理后的硅基片置于150~300℃温度下水热处理1~36小时。

5.如权利要求4所述的无铅压电陶瓷薄膜的制备方法,其特征在于,步骤七中,先将步骤六所得的溶胶在60~80℃温度下蒸发部分水分,使其具有粘度,再进行涂覆。

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