[发明专利]一种增光膜的制备方法及制备系统

权利要求书

1.一种增光膜的制备方法，其特征在于，在将软膜制作成成型装置中的成型辊之前，先在软膜具有微结构的一面镀覆一层金属膜。

2.根据权利要求1所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述金属膜的材料选自镍、铬和铝中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述金属膜的厚度为5-500纳米。

4.根据权利要求3所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述金属膜的厚度为10-30纳米。

5.根据权利要求1所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述成型装置进一步包括与成型辊相对配置的背压滚轮，所述背压滚轮的内部安设有探测成型辊滚压印胶层时对背压滚轮产生的力的压力传感器，在所述软膜两端的接缝与胶层接触之前，成型辊与背压滚轮分离，基材传送装置停止运转，同时让成型辊空转一设定角度避过软膜接缝处后，再让成型辊上的软膜与胶层接触。

6.根据权利要求5所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述软膜两端的接缝设置在成型辊的表面，并通过胶带连接，所述成型辊与背压滚轮分离的方式为，在所述软膜两端的接缝与胶层接触之前，通过成型辊抬起与背压滚轮分离。

7.根据权利要求5的增光膜的制备方法，其特征在于，所述成型辊的表面沿轴向截切一段圆弧后形成一个平面，所述软膜两端的接缝设置在该平面上，并通过胶带连接，所述成型辊与背压滚轮分离的方式为，在所述软膜两端的接缝与胶层接触之前，通过所述平面所对应的圆弧与背压滚轮分离。

8.根据权利要求7所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述平面与胶层的垂直距离大于两倍软膜和连接软膜两端胶带的厚度总和。

9.根据权利要求6或7或8所述的增光膜的制备方法，其特征在于，所述胶带的厚度为5-250微米。

10.一种增光膜的制备系统，包括传送装置、涂胶装置、成型装置和成型光源，其中：

传送装置，用于将增光膜的基材传送至涂胶装置处；

涂胶装置，用于将紫外光固化胶涂覆至该基材的表面；

成型装置，通过成型辊在紫外光固化胶表面滚压形成微结构；

成型光源，用于将具有微结构的紫外光固化胶固化，形成增光膜；

其特征在于，在成型辊的外表面裹覆有软膜，所述软膜具有微结构的一面镀覆有一层金属膜。

11.根据权利要求10所述的制备系统，其特征在于，所述成型装置进一步包括与成型辊相对配置的背压滚轮，所述背压滚轮的内部安设有探测成型辊滚压印胶层时对背压滚轮产生的力的压力传感器，所述软膜两端的接缝设置在成型辊的表面，并通过胶带连接。

12.根据权利要求10所述的制备系统，其特征在于，所述成型装置进一步包括与成型辊相对配置的背压滚轮，所述背压滚轮的内部安设有探测成型辊滚压印胶层时对背压滚轮产生的力的压力传感器，所述成型辊的表面沿轴向截切一段圆弧后形成一个平面，所述软膜两端的接缝设置在该平面上，并通过胶带连接。

13.根据权利要求12所述的增光膜的制备系统，其特征在于，所述平面与压印胶层的垂直距离大于两倍软膜和连接软膜两端胶带的厚度总和。