[发明专利]一种电容器阳极铝箔腐蚀的供电方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201010291860.7 申请日: 2010-09-26
公开(公告)号: CN102013334A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 宋洪洲;蔡小宇;熊传勇;陆雅军 申请(专利权)人: 广西贺州市桂东电子科技有限责任公司
主分类号: H01G9/055 分类号: H01G9/055;H01G13/00;C25D11/08
代理公司: 广西南宁公平专利事务所有限责任公司 45104 代理人: 黄永校
地址: 542800 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 一种 电容器 阳极 铝箔 腐蚀 供电 方法 及其 装置
【说明书】:

一、技术领域

发明涉及铝电解电容器阳极铝箔供电方法,特别是一种电容器阳极铝箔腐蚀的供电方法及其装置。

二、背景技术

目前国内或国际上铝电解电容器用阳极箔生产工艺主要采用阳极导电铜辊或银辊筒加电,其腐蚀工艺生产流程一般包括以下步骤:光箔、前级处理、一级腐蚀、二级腐蚀、三级腐蚀、或称为前级腐蚀、中级腐蚀、后级腐蚀,后处理、阳极箔用腐蚀箔。现有一级腐蚀及二级腐蚀采用如图1方式供电:

该供电方式存在较多的缺点,1、因箔通过导电铜辊或银辊加电,在箔与导电辊接触点,存在局部点电位电压较高,从而击穿铝箔或形成密集打火点,导致电解铝箔品质下降或造成废箔。2、在箔运行过程,经导电辊加电,其与箔接触面基本恒定不变,设定与导电辊接触面为反面,未接触面为正面,则光箔经一级腐蚀后,正反面状态存在差异,导致第二根导电辊加电时正反面箔的电量不一致。致使在一级腐蚀时箔正反面电性能存在差异。3、由于辊筒与箔的接触面不多,所能通过的电流较小,制约了生产效率的发挥。

因此如何改进加电方式,从而提高产品质量和有效的使用电能,已经成为铝电解电容器生产厂家进行研发和思考的方向之一。

三、发明内容

本发明的目的是提供一种电容器阳极铝箔腐蚀的供电方法及其装置,解决现有技术加电打火、正反面电性能差异、生产效率不高的问题,它既能稳定供电,又能提高腐蚀箔质量,.提高生产效率。

本发明通过以下技术方案达到上述目的:一种电容器阳极铝箔腐蚀的供电方法,该供电方法包括如下步骤:前处理→液馈→一级腐蚀→二级腐蚀A→二级腐蚀B→后处理。具体方法步骤和技术条件如下:

前处理:将铝箔放入到温度为78~82℃的含有1~10wt%盐酸和20~40wt%硫酸的混合液浸泡30~150秒。

液馈:将前处理过的铝箔用纯水清洗干净后放入温度为40~75℃,含有5~20wt%硝酸液,盐酸0.5~10wt%的液馈液中,施加电流密度为440~1400mA/cm2的直流电进行供电40~1000秒。

一级腐蚀:将前处理和液馈处理过的铝箔放在温度为65~75℃,含有1~15wt%盐酸和10~40wt%硫酸的混合液中,施加电流密度为400~1000mA/cm2的直流电进行电解腐蚀40~210秒。

二级腐蚀A:将一级腐蚀后的铝箔用纯水清洗干净后放在在温度为65~85℃,含有1~10wt%盐酸或5~15wt%硝酸溶液中,施加电流密度为40~200mA/cm2的直流电进行电解腐蚀500~1000秒。

二级腐蚀B:将最后经过二级腐蚀A处理过的腐蚀箔放在温度为65~85℃,含有1~10wt%盐酸或5~15wt%硝酸溶液中,施加电流密度为40~200mA/cm2的直流电进行电解腐蚀500~1000秒。

后处理:将二级腐蚀B2处理过的铝箔放在温度为25~65℃,含有5~15wt%硝酸溶液清洗处理30~90秒。

一种适合于所述电容器阳极铝箔腐蚀的供电方法的供电装置,该供电装置的液馈槽及液馈槽内石墨板接电源正级,一级腐蚀槽石墨板接电源负极对运行铝箔进行加电。

本发明的有益效果是,由于在铝箔供电过程采用液馈槽及液馈槽内石墨板接电源正级,一级腐蚀槽石墨板接电源负极对运行铝箔进行加电,使得铝箔在加电整个过程中没有直接与电源正负极的接触点,避免了箔与导电辊直接接触而产生的加电打火、正反面电性能差异、电能损耗大的技术问题,改善了腐蚀箔质量。

四、附图说明

图1是现有电容器阳极铝箔腐蚀的供电装置的结构方框示意图。

图中标记为:石墨板2,接电源负极;一级腐蚀电解槽4;铝箔6;导电铜辊或银辊7,接电源正极。

图2是本发明所述的电容器阳极铝箔腐蚀的供电装置的结构方框示意图。

图中标记为:馈电石墨板1,接电源正极;石墨板2,接电源负极;液溃槽3;一级腐蚀电解槽4;纯水冷却槽5;铝箔6。

五、具体实施方式

以下通过实施例对本发明的技术方案作进一步说明。

本发明所述电容器阳极铝箔腐蚀的供电方法包括如下步骤:

1、首先将铝含量99.99%的铝光箔放入到前处理液中浸泡120秒得到处理光箔,前期处理光箔用纯水清洗干净后放入液馈液中以440~1400mA/cm2的电流处理40~1000秒后,清洗干净再进行后续工序。

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