[发明专利]用于制造磁盘装置的方法无效

专利信息
申请号: 201010295642.0 申请日: 2010-09-21
公开(公告)号: CN102044264A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 赤城协;桥本识志;石渡谦介 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张焕生;谢丽娜
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 磁盘 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造磁盘装置的方法,其中,

把用于存储数据的磁盘、用于写入/读取数据的磁头以及用于使所述磁头相对于所述磁盘运动的致动器收纳在密封的壳体内;

在所述壳体中形成用来提供内部与外部之间连通的注气口和排气口;以及

在所述注气口和排气口处分别设置过滤器,

其中:

在所述注气口处设置注射喷嘴;

在所述排气口处设置吸嘴;以及

在借助于所述吸嘴从所述壳体内抽吸气体的同时借助于所述注射喷嘴将置换气体注入到所述壳体中,使得所述壳体内的气体压力不会降到低于在所述壳体内存在的有机化合物的蒸汽压力。

2.根据权利要求1所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,借助于所述吸嘴从所述壳体内抽吸气体,使得所述壳体内的气体压力不会降到低于大气压力。

3.根据权利要求1所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,检测所述注射喷嘴内的气体压力和所述吸嘴内的气体压力,并且基于以下的公式1来获得所述壳体内的气体压力:

[公式1]

(C1C2)2·(dindout)4=P2-P3P1-P2,]]>

在所述公式中,P1是所述注射喷嘴内的气体压力,P2是所述壳体内的气体压力,P3是所述吸嘴内的气体压力,din是所述注气口的直径,dout是所述排气口的直径,C1是在所述注气口处设置的过滤器的流率系数,以及C2是在所述排气口处设置的过滤器的流率系数。

4.根据权利要求1所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,在注入所述置换气体的同时使所述磁盘旋转。

5.根据权利要求1所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,所述置换气体是密度比空气低的低密度气体。

6.根据权利要求5所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,将所述低密度气体注入到所述壳体中,然后控制所述磁头与致动器使得将伺服数据写到所述磁盘。

7.根据权利要求5所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,在将低密度气体注入到所述壳体中的同时获取根据所述壳体内的所述低密度气体的浓度改变的指标,从而估计所述壳体内的低密度气体的浓度。

8.根据权利要求7所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,所述指标是为了使所述磁盘旋转而供应至马达的驱动电流的量值。

9.根据权利要求7所述的用于制造磁盘装置的方法,其中,所述指标是所述壳体内的氧浓度。

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