[发明专利]用于化学气相沉积设备中的气体墙结构有效

专利信息
申请号: 201010296332.0 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN101956182B 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 王国斌;朱建军;邱凯;张永红 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215123 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 化学 沉积 设备 中的 气体 结构
【权利要求书】:

1.一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述气体墙 结构包括外管(2)和内管,内管设置在外管内腔中,且内管外壁和外管内壁之间 留有间隙,该间隙与设置在外管一侧上的一个进气口(1)连通,且沿气流运行方 向,该间隙逐渐减小,所述内管上沿轴向还分布复数个连通内管内腔和所述间 隙的气隙结构,其中,每一气隙结构包括沿周向均匀分布的两个以上进气缝隙 (4)、一环形延伸壁(7)和一环形导流壁(6),所述延伸壁(7)和导流壁(6)沿进入 该气隙结构的气流运动方向依次分布在内管内腔中,所述延伸壁(7)一端固定在 内管内壁上,另一端盖过进气缝隙(4),并与进气缝隙(4)、内管内壁共同构成 气流通道,所述导流壁(6)为设置在内管内壁上的环形倾斜面,该倾斜面自其靠 近进气缝隙(4)的一端起向内管中心处倾斜。

2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征 在于:所述延伸壁(7)另一端位于进气缝隙(4)和导流壁(6)之间。

3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征 在于:所述内管包括复数个内部单元管(3),相邻两个内部单元管按照首尾相接 的方式依次排布,且每一内部单元管(3)首端部沿周向均匀设置二个以上进气缝 隙(4),尾端部设置延伸壁(7),且进气缝隙(4)与延伸壁之间的管体内壁上设置 导流壁(6)。

4.根据权利要求3所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征 在于:所述每一内部单元管(3)的首端部设置内螺纹(5),尾端部设置外螺纹(8), 相邻两个内部单元管(3)的首端部与尾端部以所述内螺纹(5)和外螺纹(8)固定 组接。

5.根据权利要求1或3所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其 特征在于:所述进气缝隙(4)为条状或带状。

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