[发明专利]用于化学气相沉积设备中的气体墙结构有效
申请号: | 201010296332.0 | 申请日: | 2010-09-29 |
公开(公告)号: | CN101956182B | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 王国斌;朱建军;邱凯;张永红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
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地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 设备 中的 气体 结构 | ||
1.一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述气体墙 结构包括外管(2)和内管,内管设置在外管内腔中,且内管外壁和外管内壁之间 留有间隙,该间隙与设置在外管一侧上的一个进气口(1)连通,且沿气流运行方 向,该间隙逐渐减小,所述内管上沿轴向还分布复数个连通内管内腔和所述间 隙的气隙结构,其中,每一气隙结构包括沿周向均匀分布的两个以上进气缝隙 (4)、一环形延伸壁(7)和一环形导流壁(6),所述延伸壁(7)和导流壁(6)沿进入 该气隙结构的气流运动方向依次分布在内管内腔中,所述延伸壁(7)一端固定在 内管内壁上,另一端盖过进气缝隙(4),并与进气缝隙(4)、内管内壁共同构成 气流通道,所述导流壁(6)为设置在内管内壁上的环形倾斜面,该倾斜面自其靠 近进气缝隙(4)的一端起向内管中心处倾斜。
2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征 在于:所述延伸壁(7)另一端位于进气缝隙(4)和导流壁(6)之间。
3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征 在于:所述内管包括复数个内部单元管(3),相邻两个内部单元管按照首尾相接 的方式依次排布,且每一内部单元管(3)首端部沿周向均匀设置二个以上进气缝 隙(4),尾端部设置延伸壁(7),且进气缝隙(4)与延伸壁之间的管体内壁上设置 导流壁(6)。
4.根据权利要求3所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征 在于:所述每一内部单元管(3)的首端部设置内螺纹(5),尾端部设置外螺纹(8), 相邻两个内部单元管(3)的首端部与尾端部以所述内螺纹(5)和外螺纹(8)固定 组接。
5.根据权利要求1或3所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其 特征在于:所述进气缝隙(4)为条状或带状。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的