[发明专利]投影光学系统、曝光装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种投影光学系统，在从物面到像面的光路上，从所述物面一侧开始依次配置第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜以及第2平面镜，所述物面和所述第1平面镜之间的光路与所述第2平面镜和所述像面之间的光路平行，其中，所述投影光学系统具有：

第1光学系统，配置在所述物面和所述第1平面镜之间的光路上，修正与沿该光路的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；

第2光学系统，配置在所述第2平面镜和所述像面之间的光路上，修正与所述第1方向和所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率；

第3光学系统，配置在所述物面和所述第1平面镜之间的光路或所述第2平面镜和所述像面之间的光路上，在所述第2方向和所述第3方向上以相同的倍率修正所述投影光学系统的倍率；以及

控制部分，

其中，将所述投影光学系统的所述第2方向和所述第3方向上的倍率的应修正量分别设为A和B，将所述第3光学系统对所述投影光学系统的所述第2方向和所述第3方向上的倍率的修正量设为C时，

所述控制部分控制所述第1光学系统、所述第2光学系统和所述第3光学系统，使得所述修正量C成为所述应修正量A与所述应修正量B之间的量，所述第1光学系统对所述第2方向上的倍率的修正量成为(A-C)，所述第2光学系统对所述第3方向上的倍率的修正量成为(B-C)。

2.如权利要求1所述的投影光学系统，其中，在所述物面和所述像面双方具有远心性。

3.如权利要求1所述的投影光学系统，其中，所述第1光学系统和所述第2光学系统包括能够在所述第1方向上变形的平行平板、和具有多个柱面透镜并且能够变更该多个柱面透镜在所述第1方向上的间隔的柱面透镜系统中的至少一个；

所述第3光学系统包括具有平凸透镜和平凹透镜并且能够变更所述平凸透镜和所述平凹透镜在所述第1方向上的间隔的光学系统、和具有凹球面或凸球面和平面并且能够沿所述第1方向驱动的透镜中的某一个。

4.如权利要求1所述的投影光学系统，其中，所述控制部分控制所述第1光学系统、所述第2光学系统和所述第3光学系统，使得所述修正量C为(A+B)/2，所述第1光学系统对所述第2方向上的倍率的修正量为(A-B)/2，所述第2光学系统对所述第3方向上的倍率的修正量(B-A)/2。

5.一种曝光装置，其特征在于，使用权利要求1～4中的任意一项所述的投影光学系统，将配置在所述物面上的中间掩模的图案投影至配置在所述像面上的基板，对所述基板进行曝光。

6.一种制造器件的器件制造方法，包括：

使用权利要求5所述的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及

将进行了所述曝光的基板显影的工序。