[发明专利]装载锁定装置,包括该装置的光刻设备及制造基底的方法有效
| 申请号： | 201010298735.9 | 申请日： | 2004-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN101986208A | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | A·J·H·克洛普;J·F·胡格坎普;R·维斯塞;J·C·J·A·乌格特斯;H·J·L·M·乌林斯;L·W·M·奎佩斯;J·H·G·弗兰斯森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装载 锁定 装置 包括 光刻 设备 制造 基底 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻设备中的支承结构，所述支承结构包括支承基底的主体，以及包括供给管线，用来在所述基底和所述支承结构间的容积中供给气体，该支承结构被设置用来经由所述容积中的所述气体控制基底温度；
所述支承结构包括固定主体，且所述支承结构被设置成使用中在所述固定主体中旋转所述主体，所述主体和所述固定主体在它们之间限定了与所述容积连通的间隙，所述的固定主体具有允许温度受控流体在其中流过的管线。
2.如权利要求1所述的支承结构，其特征在于，在使用中，所述容积中的所述气体具有在50到1.5×107帕范围内的压力。
3.如权利要求2所述的支承结构，其特征在于，所述压力在200到104帕范围内。
4.如权利要求1或2所述的支承结构，其特征在于，该支承结构设有夹具，以夹紧所述基底压靠所述主体。
5.如权利要求1所述的支承结构，其特征在于，所述主体包括垫环，以密封所述容积。
6.如权利要求1所述的支承结构，其特征在于，所述间隙用密封装置密封，以使所述间隙可以包括其压力高于所述支承结构的环境的气体。
7.如权利要求6所述的支承结构，其特征在于，所述固定主体包括开孔，以排出在所述间隙中存在的气体，和减小经由所述密封装置的气体泄漏。
8.如权利要求1所述的支承结构，其特征在于，所述供给管线设有阀门，当没有基底存在时，用来封闭所述供给管线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010298735.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
