[发明专利]折反射投射物镜有效

专利信息
申请号: 201010299110.4 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN102033299A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 亚历山大·埃普尔;托拉尔夫·格鲁纳;拉尔夫·米勒 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B17/08;G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 反射 投射 物镜
【权利要求书】:

1.一种用于微光刻的折反射投射物镜(1,701),用于将物面(5,705)中的物场(3,703)成像到像面(9,709)中的像场(7,707)上,包括:

第一分物镜(11,711),用于将所述物场成像到实的第一中间像(13,713)上;

第二分物镜(15,715),用于将所述第一中间像成像到实的第二中间像(17,717)上;以及

第三分物镜(19,719),用于将所述第二中间像成像到所述像场(7,707)上,

其中所述第二分物镜(15,715)恰具有一个凹面镜(21,721)和至少一个透镜(23,723),

其中所述投射物镜具有第一折叠镜(27,727)和第二折叠镜(29,729),所述第一折叠镜(27,727)用于将来自所述物面的辐射偏向所述凹面镜的方向,所述第二折叠镜(29,729)用于将来自所述凹面镜的辐射偏向所述像面的方向,

其中所述投射物镜恰具有两个实的中间像(13,17;713,717),并且

其中所述投射物镜在所述像面(9,709)中具有大于1.0的数值孔径,

其特征在于:

所述凹面镜(21,721)的镜表面的光学利用区域与邻近所述凹面镜的透镜(23,723)的面对所述凹面镜的表面(25,725)的光学利用区域之间的最小距离大于10mm。

2.一种用于微光刻的折反射投射物镜(1,701),用于将物面(5,705)中的物场(3,703)成像到像面(9,709)中的像场(7,707)上,包括:

第一分物镜(11,711),具有第一光轴(33,733)且用于将所述物场成像到实的第一中间像(13,713)上;

第二分物镜(15,715),具有第二光轴(35,735)且用于将所述第一中间像成像到实的第二中间像(17,717)上;以及

第三分物镜(19,719),具有第三光轴(37,737)且用于将所述第二中间像成像到所述像场(7,707)上,

其中所述第二分物镜(15,715)恰具有一个凹面镜(21,721)和至少一个透镜(23,723),

其中所述投射物镜具有第一折叠镜(27,727)和第二折叠镜(29,729)所述第一折叠镜(27,727)用于将来自所述物面的辐射偏向所述凹面镜的方向,所述第二折叠镜(29,729)用于将来自所述凹面镜的辐射偏向所述像面的方向,

其中所述投射物镜恰具有两个实的中间像(13,17;713,717),并且

其中所述投射物镜在所述像面(9,709)中具有大于1.0的数值孔径,

其特征在于:

所述凹面镜(21,721)与邻近所述凹面镜的透镜(23,723)之间的距离如此大,使得从入瞳中的照明极(563,565)出射且在所述物场(3,703)内的中心物点处与所述物面相交的所有光线(47,49,51,53)在空间分离的区域中(55,57,59,61)在朝向所述凹面镜的光路上及在离开所述凹面镜的光路上通过所述透镜的面对所述凹面镜的表面,

其中所述照明极代表所述入瞳的强度分布内的强度不低于最大强度的10%的连续区域,

其中所述照明极(563,565)布置在所述入瞳的边缘(569),

其中在y方向上所述照明极(563,565)的范围大于所述入瞳的光瞳半径的2%,

其中所述y方向平行于一直线,所述直线垂直于所述第一分物镜的所述光轴(33,723)且位于对称面内,并且

其中所述对称面被所述第一光轴(33,723)、所述第二光轴(35,735)和所述第三光轴(37,737)跨越。

3.根据权利要求2所述的投射物镜,

其中所述照明极(563,565)在所述y方向上的范围小于或等于所述入瞳的所述光瞳半径的8%。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的投射物镜,

其中所述凹面镜(21,721)的表面顶点与邻近所述凹面镜的所述透镜(23,723)的表面顶点之间的距离小于所述凹面镜的顶点半径。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的投射物镜,

其中所述凹面镜(21,721)具有小于200mm的顶点半径。

6.根据权利要求1到5中任一项所述的投射物镜,

其中所述凹面镜(21,721)的光学利用区域具有小于260mm的直径。

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