[发明专利]光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置无效
申请号: | 201010299767.0 | 申请日: | 2010-09-28 |
公开(公告)号: | CN102044272A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 井上智;吉田侑太;桥本直人;滝岛俊 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B7/135 | 分类号: | G11B7/135;G02B1/11 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;靳强 |
地址: | 日本东京新*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 信息 记录 再现 光学系统 装置 | ||
1.一种用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,所述光学信息记录/再现光学系统通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息,
其中:
激光束的中心波长λ落在下面的条件限定的范围内,单位:nm:
390≤λ≤420.....(1);
所述物镜的基质材料由树脂构成;
树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T,单位:%:
Tg≥115℃.....(2),
85≤T≤90.....(3);
在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜;以及
所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更厚的厚度。
2.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,
其中:
每个抗反射膜具有通过在等于或小于10-2Pa程度的真空下的真空沉积形成的高密度层;以及
所述高密度层在光轴附近的厚度为40nm或更厚。
3.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,其中每个抗反射膜都具有通过溅射形成的高密度层。
4.如权利要求1到3中任意一项所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,其中构成每个抗反射膜的层中的至少其中之一是由二氧化硅、氧化铝或二氧化硅和氧化铝的混合物制成。
5.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,其中所述物镜的玻璃态转变温度Tg满足下面的条件:
Tg≥125℃.....(4)。
6.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,其中每个抗反射膜是单层膜或者是具有四层或少于四层的多层膜。
7.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,
其中在从所述光源发出的激光束所进入的所述物镜的光源侧光学表面上的抗反射膜被形成为垂直入射的反射率取最小值的λB1落在下面的范围中,单位:nm:
600<λB1<800.....(5)。
8.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,
其中在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上的抗反射膜被形成为垂直入射的反射率取最小值的λB2落在下面的范围中,单位:nm:
430<λB2<600.....(6)。
9.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜,
其中在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上形成的抗反射膜是通过在基质材料上从基质材料侧按顺序堆叠第一层至第三层形成的三层膜;以及
在n1至n3分别代表所述第一层至所述第三层在波长406nm的折射率,以及d1至d3分别代表所述第一层至所述第三层的厚度的情况下,折射率n1至n3以及厚度d1至d3满足条件,d1至d3单位nm:
第一层:n1≤1.55, 50≤d1≤200
第二层:1.55<n2≤1.70,40≤d2≤150
第三层:n3≤1.55, 50≤d3≤200。
10.一种光学信息记录/再现装置,其通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息,包括物镜,
其中:
激光束的中心波长λ落在下面的条件限定的范围内,单位:nm:
390≤λ≤420.....(1);
所述物镜的基质材料由树脂构成;
树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T,单位:%:
Tg≥115℃.....(2),
85≤T≤90.....(3);
在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜;以及
所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更厚的厚度。
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