[发明专利]具有色彩之壳体及其表面处理方法

权利要求书

1.一种具有色彩之壳体，其特征在于，包含基材、色彩层及结合层，所述基材的表面包含至少一平滑区域，所述色彩层覆盖基材的平滑区域，所述色彩层包含铬金属，所述色彩层于平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于17.93至19.93，a*坐标介于23.74至24.74，而b*坐标介于2.20至3.20，所述结合层设置于基材与色彩层之间，以接合基材与色彩层。

2.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述基材为金属材料或陶瓷材料。

3.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述结合层包含氮化钛。

4.如权利要求3所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述结合层在物理气相沉积制程中利用钛靶材所形成。

5.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述色彩层包含铬铝合金。

6.如权利要求5所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述色彩层在物理气相沉积制程中利用铬靶材与铝靶材所形成。

7.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述具有色彩之壳体的维氏硬度(Vickers hardness)大于等于300HV。

8.一种具有色彩之壳体之表面处理方法，该方法包括下列步骤：

提供一基材；

形成一结合层，覆盖该基材的表面；以及

利用一物理气相沉积制程形成一色彩层，覆盖所述结合层的表面，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于17.93至19.93，a*坐标介于23.74至24.74，而b*坐标介于2.20至3.20。

9.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述基材为金属材料或陶瓷材料。

10.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述形成结合层的步骤包含物理气相沉积制程。

11.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包含利用钛靶材进行溅镀，所述结合层包含氮化钛。

12.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包含利用铬靶材与铝靶材进行溅镀，所述色彩层包含铬铝合金。

13.如权利要求12所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程轰击铬靶材的功率介于10.8至13.2千瓦。

14.如权利要求12所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程轰击该铝靶材的功率介于27至33千瓦。

15.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的偏压介于180至220伏特。

16.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的制程温度介于摄氏180至220度。

17.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的制程时间介于21.6至26.4分钟。

18.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的制程压力介于3.78至4.62毫托耳。

19.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包括提供氩气，所述氩气的流量介于54至66标准立方公分每分钟(standard cubiccentimeter per minute，sccm)。

20.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包括提供氧气，所述氧的流量介于162至198标准立方公分每分钟。

21.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述基材在物理气相沉积制程中的公转转速介于1.8至2.2转速每分钟(revolution per minute，rpm)。

22.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述基材在物理气相沉积制程中的自转转速介于7.2至8.8rpm。