[发明专利]光刻设备和操作光刻设备的方法

权利要求书

1.一种流体供给设备，所述流体供给设备被配置以将乳化的清洁流体供给至浸没式光刻设备，所述流体供给设备包括混合器和传感器系统以及控制器，所述混合器被配置成将来自添加剂流体供给装置的添加剂流体和来自浸没液体供给装置的浸没液体混合，以形成所述乳化的清洁流体，所述传感器系统被配置以感测所述乳化的清洁流体的物理性质，所述控制器被连接至所述传感器和所述混合器，所述控制器被配置以控制：

所述添加剂流体从所述添加剂流体供给装置至所述混合器的供给；和

所述乳化的清洁流体的物理性质。

2.一种液体供给装置，所述液体供给装置包括：

混合器，所述混合器被配置以将来自第一液体源的液体与来自第二液体源的活性清洁剂液体混合，以形成乳化的清洁流体；

导管，所述导管被配置以提供来自所述混合器的乳化的清洁流体，所述乳化的清洁流体至少包括第一液体成分和第二液体成分；

传感器系统，所述传感器系统被配置以感测所述乳化的清洁流体的性质；和

控制器，所述控制器被配置以控制从第一液体源和/或所述第二液体源的液体至所述混合器的供给，以便控制所述乳化的清洁流体的性质。

3.根据权利要求2所述的液体供给装置，其中所述导管被布置成将所述乳化的清洁流体供给至浸没空间或储存容器。

4.一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：

投影系统；

液体限制结构，所述液体限制结构被配置成至少部分地将浸没液体限制至由所述投影系统、所述液体限制结构以及衬底和/或衬底台所限定的浸没空间；

液体供给装置，所述液体供给装置包括混合器和导管，所述混合器被配置以混合来自第一液体源的液体和来自第二液体源的活性清洁剂液体，以形成乳化的清洁流体，所述导管被配置成将来自所述混合器的乳化的清洁流体提供至所述液体限制结构，所述乳化的清洁流体至少包括第一液体成分和第二液体成分；

传感器系统，所述传感器系统被配置成感测所述乳化的清洁流体的性质；和

控制器，所述控制器被配置以控制来自所述第一液体源和/或所述第二液体源的液体至所述混合器的供给，以便控制所述乳化的清洁流体的性质。

5.根据权利要求4所述的浸没式光刻设备，其中所述传感器系统被配置成感测所述乳化的清洁流体的性质随时间的变化。

6.根据权利要求4或5所述的浸没式光刻设备，其中，所述传感器系统包括至少两个传感器，其中一个传感器位于另一传感器的上游，所述传感器被连接至所述控制器，且将信号引导至所述控制器，所述控制器被配置成处理来自所述传感器的信号。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的浸没式光刻设备，其中，所述传感器系统被配置成感测所述乳化的清洁流体中的所述第一液体成分相对于所述第二液体成分的流量的流量。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的浸没式光刻设备，其中，所述传感器系统被配置以检测第一液体成分在所述乳化的清洁流体中相对于所述第二液体成分的比例。

9.根据权利要求4至8中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述第一液体源的液体包括超纯水。

10.根据权利要求4至9中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述第二液体源的液体包括清洁剂，期望是抗蚀剂清洁剂，诸如清洁液体，以移除无顶涂层的抗蚀剂。

11.根据权利要求4至10中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述混合器包括阀，所述阀用于计量从一个液体源进入到另一液体源的液体中的液体。

12.根据权利要求4至11中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述导管被配置成将乳化的清洁流体提供至面对所述衬底和/或衬底台的所述液体限制结构的表面中的开口。

13.根据权利要求4至12中任一项所述的浸没式光刻设备，还包括衬底，其中所述衬底具有抗蚀剂的表面涂层。

14.根据权利要求13所述的浸没式光刻设备，其中所述抗蚀剂是无顶涂层的抗蚀剂。

15.一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：

液体供给装置，所述液体供给装置包括混合器，所述混合器被配置成将第一液体与活性清洁剂液体混合以形成乳化的清洁流体，其中所述混合器是被动式混合器，所述被动式混合器被配置成将所述活性清洁剂液体的液滴尺寸保持在特定范围内。