[发明专利]一种稀土六硼化物纳米超细粉体的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010502217.4 申请日: 2010-10-11
公开(公告)号: CN101948117A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 钱逸泰;王连成;徐立强;马小健 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C01B35/04 分类号: C01B35/04
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 李宝成
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 稀土 六硼化物 纳米 超细粉体 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于稀土六硼化物纳米超细材料的制备技术领域,尤其涉及固相反应在较低温度、较低压力下合成六硼化物超细纳米粉体材料的方法。

背景技术

稀土金属六硼化合物(RB6)具有CsCl结构,不同的是B6八面体团簇占据了CsCl结构中Cl的位置。结构中B原子间强烈的共价键,使之形成紧密的空间网络,故而RB6化合物一般具有低挥发性,低逸出功,高熔点、高强度和高稳定性等特点,这使之成为重要的场发射材料,广泛的用在电镜灯丝等尖端仪器上。由于B6八面体空间网络结构需要两个电子使之稳定,Cs位置上价电子不同的金属元素使之在诸多方面有明显的差异,如三价的六硼化合物有一个电子富裕,是导体(LaB6,PrB6,GdB6)或超导体(YB6);二价六硼化合物(如:EuB6)通常是窄带宽半导体;而SmB6则会表现出价态起伏的性质。另外部分六硼化物纳米材料有表面等离子体共振吸收,其波长位于近红外光区域(如LaB6,800~1800nm),这使之成为重要的近红外阻隔材料。以LaB6近红外辐射阻隔材料为例,其尺寸一般以50nm左右为佳,若LaB6颗粒尺寸大于或接近可见光波长,将对可见光产生散射,影响到可见光的透过。

传统上六硼化物主要通过元素直接化合,碳热还原,硼热还原,铝热溶剂还原等手段合成,参见中国专利ZL 200610026088,六硼化钕的制备方法。但这些传统合成方法通常在1100~1800℃进行。在较低的温度下(~800℃)发展了熔盐电解合成,自蔓延反应(750℃)合成制备LaB6的方法,参见中国专利ZL 88100855,熔盐电解合成稀土六硼化物。不过文献报道中,聚合物添加的LaB6近红外阻隔纳米材料主要通过ZrO2高能球磨得到。一方面球磨会引入ZrO2杂质可能会降低其理化性能。另一方面高能球磨需要保护气等条件,操作比较复杂,基于制备方法及成本原因,使其应用受到了一定程度的限制。而CVD法通常使用毒性较大的BBr3,BCl3或B2H6气体,参见H.Zhang,等人Single-Crystalline LaB6 Nanowires.美国化学会志,J.Am.Chem.Soc.2005,127,13120-13121。

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